[發(fā)明專利]顯示裝置及制備方法、控制對比度的方法、光閥控制器在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201810251898.8 | 申請日: | 2018-03-26 |
| 公開(公告)號: | CN108445683A | 公開(公告)日: | 2018-08-24 |
| 發(fā)明(設計)人: | 徐慶文;惠大勝 | 申請(專利權(quán))人: | 京東方科技集團股份有限公司;合肥京東方顯示技術(shù)有限公司 |
| 主分類號: | G02F1/1343 | 分類號: | G02F1/1343;G09G3/36 |
| 代理公司: | 北京清亦華知識產(chǎn)權(quán)代理事務所(普通合伙) 11201 | 代理人: | 趙天月 |
| 地址: | 100015 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 光閥控制器 顯示裝置 液晶盒 顯示子像素 彩膜基板 對向設置 陣列基板 陣列排布 上基板 下基板 子像素 制備 一一對應設置 顯示效果 液晶分子 用戶觀看 填充 | ||
1.一種顯示裝置,其特征在于,包括:
液晶盒,所述液晶盒包括對向設置的陣列基板以及彩膜基板;以及
光閥控制器,所述光閥控制器設置在所述陣列基板遠離所述彩膜基板的一側(cè),所述光閥控制器包括對向設置的上基板、下基板以及填充在所述上基板以及所述下基板之間的液晶分子,
其中,所述液晶盒包括多個呈陣列排布的顯示子像素,所述光閥控制器包括多個呈陣列排布的控制子像素,所述顯示子像素以及所述控制子像素一一對應設置。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示裝置,其特征在于,所述液晶盒的所述陣列基板上設置有多個用于控制所述顯示子像素的第一像素電極,
所述光閥控制器的所述下基板上設置有多個用于控制所述控制子像素的第二像素電極,
所述第一像素電極與所述第二像素電極在所述下基板上的正投影區(qū)域重合。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的顯示裝置,其特征在于,所述彩膜基板設置有第一公共電極,所述第一公共電極設置在所述彩膜基板靠近所述陣列基板的一側(cè);
所述上基板設置有第二公共電極,所述第一公共電極與所述第二公共電極在所述下基板上的正投影區(qū)域重合。
4.根據(jù)權(quán)利要求1-3任一項所述的顯示裝置,其特征在于,所述彩膜基板、所述陣列基板以及所述下基板,均設置有偏光片。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的顯示裝置,其特征在于,所述彩膜基板上的所述偏光片,以及所述下基板上的所述偏光片的偏光方向一致。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示裝置,其特征在于,進一步包括:
背光模組,所述背光模組設置在所述光閥控制器遠離所述液晶盒的一側(cè)。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示裝置,其特征在于,進一步包括:
電路控制單元,所述電路控制單元分別與所述第一像素電極以及所述第二像素電極相連,所述電路控制單元被設置為向所述第一像素電極以及所述第二像素電極輸入相同的信號。
8.一種光閥控制器,其特征在于,所述光閥控制器為權(quán)利要求1-7任一項所述的光閥控制器。
9.一種顯示裝置的制備方法,其特征在于,包括:
提供液晶盒,所述液晶盒包括對向設置的陣列基板以及彩膜基板;以及
在所述陣列基板遠離所述彩膜基板的一側(cè)設置光閥控制器,所述光閥控制器包括對向設置的上基板、下基板以及填充在所述上基板以及所述下基板之間的液晶分子,
其中,所述液晶盒包括多個呈陣列排布的顯示子像素,所述光閥控制器包括多個呈陣列排布的控制子像素,所述顯示子像素以及所述控制子像素一一對應設置。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法,其特征在于,所述液晶盒的所述彩膜基板設置有第一公共電極,所述陣列基板設置有第一像素電極,
所述光閥控制器是通過以下步驟形成的:
提供設置有第二公共電極的所述上基板,以及設置有第二像素電極和偏光片的所述下基板;
將所述上基板以及所述下基板對向設置,并將所述液晶分子密封在所述上基板和所述下基板之間,
其中,所述第一公共電極在所述上基板上的正投影,與所述第二公共電極在所述上基板上的正投影重合;
所述第一像素電極在所述下基板上的正投影,與所述第二像素電極在所述下基板上的正投影重合。
11.一種控制顯示裝置對比度的方法,其特征在于,所述顯示裝置包括液晶盒以及光閥控制器,所述液晶盒包括對向設置的陣列基板以及彩膜基板,所述光閥控制器設置在所述陣列基板遠離所述彩膜基板的一側(cè),所述光閥控制器包括對向設置的上基板、下基板以及填充在所述上基板以及所述下基板之間的液晶分子,所述液晶盒包括多個呈陣列排布的顯示子像素,所述光閥控制器包括多個呈陣列排布的控制子像素,所述顯示子像素以及所述控制子像素一一對應設置,所述方法包括:
控制對應設置的所述顯示子像素以及所述控制子像素中的液晶分子,偏轉(zhuǎn)程度一致。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的方法,其特征在于,所述陣列基板上設置有第一像素電極,所述下基板上設置有第二像素電極,
所述彩膜基板設置有第一公共電極,所述上基板設置有第二公共電極,所述方法進一步包括:
在所述第一公共電極以及所述第二公共電極上施加固定且電壓相同的公共電壓信號;
利用電路控制單元,向所述第一像素電極以及所述第二像素電極輸入相同的信號。
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G02F 用于控制光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學;光學
G02F1-00 控制來自獨立光源的光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學
G02F1-01 .對強度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導結(jié)構(gòu)中的





