[發明專利]一種利用光學諧振腔增強磁光克爾效應的方法在審
| 申請號： | 201810251320.2 | 申請日： | 2018-03-26 |
| 公開（公告）號： | CN108535893A | 公開（公告）日： | 2018-09-14 |
| 發明（設計）人： | 宋玉軍;張偉偉;趙翠翠;韓澤欣 | 申請（專利權）人： | 北京科技大學 |
| 主分類號： | G02F1/09 | 分類號： | G02F1/09;H01L21/02 |
| 代理公司： | 北京市廣友專利事務所有限責任公司 11237 | 代理人： | 張仲波 |
| 地址： | 100083*** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 磁光 光學諧振腔 高透射率 薄膜 高反射率薄膜 磁性薄膜 克爾信號 襯底 制備技術領域 磁性薄膜層 分子束外延 原子層沉積 操作過程 磁控濺射 多層復合 化學沉積 結構增強 納米加工 納米結構 平整薄片 熱蒸鍍 有機氣 旋涂 制備 潔凈 金屬 構筑 | ||
【權利要求書】：
1.一種利用光學諧振腔增強磁光克爾效應的方法，其特征在于利用高透射率的薄膜構建單層或多層法布里-珀羅光學諧振腔實現對磁性薄膜磁光性質的調控，具體制備過程為：
(1)選取表面平整的薄片作為襯底，襯底在使用前根據選取的襯底屬性選擇合適的溶液進行超聲清洗，去除襯底表面的雜質；
(2)利用磁控濺射、熱蒸鍍、分子束外延(MBE)、金屬有機氣相化學沉積(MOCVD)、原子層沉積(ALD)和旋涂方法中的一種或幾種在備好的襯底上依次構筑高反射率薄膜、高透射率薄膜、磁性薄膜、高透射率薄膜或者依次為高反射率薄膜、高透射率薄膜、磁性薄膜。
2.根據權利要求1所述的一種利用光學諧振腔效應增強磁光克爾效應的方法其特征在于選用的襯底為表面平整且潔凈的普通玻璃片、石英片、藍寶石片、硅片和聚合物片。
3.根據權利要求1所述利用光學諧振腔效應增強磁光克爾效應的方法，其特征在于所述溶液為乙醇、丙酮、去離子水中的一種或者幾種。
4.根據權利要求1所述利用光學諧振腔效應增強磁光克爾效應的方法，其特征在于所述高反射率薄膜為銀，鋁、鉻、高透射率薄膜為氧化銦錫(ITO)、二氧化鉿、透明聚合物、磁性層。
5.根據權利要求1所述利用光學諧振腔效應增強磁光克爾效應的方法，其特征在于薄膜的制備方法可以為磁控濺射、熱蒸鍍、分子束外延、原子層沉積和旋涂中的一種或幾種。
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