[發(fā)明專利]用于調(diào)節(jié)閥的閥塞組件和座環(huán)在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201810247336.6 | 申請日: | 2018-03-23 |
| 公開(公告)號: | CN108626420A | 公開(公告)日: | 2018-10-09 |
| 發(fā)明(設計)人: | 林春 | 申請(專利權(quán))人: | 艾默生過程管理調(diào)節(jié)技術公司 |
| 主分類號: | F16K1/36 | 分類號: | F16K1/36;F16K1/42;F16K1/46;F16K1/00 |
| 代理公司: | 永新專利商標代理有限公司 72002 | 代理人: | 胡欣 |
| 地址: | 美國德*** | 國省代碼: | 美國;US |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 閥塞組件 密封盤 座環(huán) 就座表面 閥塞 密封接合 使用壽命 保持器 接合座 延伸 減小 配置 | ||
一種適于與座環(huán)密封接合的閥塞組件。該閥塞組件包括具有密封盤的閥塞,該密封盤適于接合座環(huán)的就座表面。該座環(huán)的就座表面具有初級部分和次級部分,該初級部分具有大約20度到大約45度中的任何角度的初級角度,并且該次級部分以大約10度的次級角度從初級部分進行延伸。保持器耦接到該閥塞并且包括具有第一部分、第二部分和側(cè)部的主體,該側(cè)部以大約30度到大約45度的角度中的一個從第一部分延伸到第二部分。如此配置,減小了作用在密封表面上的應力,增加了密封盤的使用壽命。
技術領域
本公開內(nèi)容總體上涉及流體控制設備,更具體而言,涉及用于流體控制設備的改進的閥座和盤保持器。
背景技術
流體控制設備包括各種類型的具有控制閥和調(diào)節(jié)器的裝備。這些控制設備適于耦接在流體過程控制系統(tǒng)(諸如化學處理系統(tǒng)、天然氣輸送系統(tǒng)等)內(nèi),以便控制通過其的流體流動。每個控制設備包括限定流體流動-路徑的主體以及用于調(diào)整流動-路徑的大小的控制構(gòu)件組件。座環(huán)設置在閥主體的喉部內(nèi)。
控制構(gòu)件組件通常包括具有密封盤的閥塞組件,該密封盤具有密封表面。當閥主體的出口壓力高時,密封盤的密封表面可以密封地接合座環(huán)并關閉喉部。這防止通過調(diào)節(jié)器的流體流動。
盡管當密封盤接合座環(huán)時防止了通過調(diào)節(jié)器的流體流動,但是來自流體的高壓力仍然經(jīng)常作用在密封盤的任何暴露的外表面上。這種力導致了例如密封盤的侵蝕和裂片(chunking),如圖1的密封盤10、12、14和16所描繪的。因此,常規(guī)的閥塞組件的密封盤需要更經(jīng)常地維修和/或更換,從而降低了閥塞組件的使用壽命和效率,并且最終降低了流體控制設備的使用壽命和效率。
發(fā)明內(nèi)容
在本公開內(nèi)容的一個方面中,一種適于與座環(huán)密封接合的閥塞組件包括:閥塞和耦接到閥塞的保持器。該閥塞具有圓柱形主體、從該主體徑向延伸的環(huán)形凸緣以及設置在該環(huán)形凸緣內(nèi)的密封盤。該密封盤具有適于接合該座環(huán)的就座表面(seating surface)的密封表面,并且該座環(huán)的就座表面具有初級部分,該初級部分具有大約20度到大約45度的初級角度。該保持器將閥塞固定到安裝部分,該保持器具有包括第一部分、第二部分和環(huán)形側(cè)部的主體,該環(huán)形側(cè)部以大約30度或大約45度的角度或大約30度至大約45度之間的角度從該第一部分延伸到該第二部分。
根據(jù)本公開內(nèi)容的另一個方面,一種流體控制設備包括閥主體和座環(huán),該閥主體限定流體的流動路徑,并且該座環(huán)設置在該流動路徑內(nèi)并具有就座表面,該座環(huán)的就座表面具有初級部分,該初級部分具有大約20度到大約45度的初級角度。致動器耦接到該閥主體并且包括控制組件,該控制組件適于相對于座環(huán)進行移位以便調(diào)節(jié)流體通過流動路徑的流動。該控制組件包括安裝部分和閥塞組件,該閥塞組件耦接到該安裝部分并適于密封接合座環(huán)。該閥塞組件包括閥塞,該閥塞具有圓柱形主體、從該主體徑向延伸的環(huán)形凸緣以及設置在該環(huán)形凸緣內(nèi)的密封盤。該密封盤具有適于接合座環(huán)的就座表面的密封表面。保持器耦接到閥塞,以將該閥塞固定到安裝部分。該保持器具有包括第一部分、第二部分和環(huán)形側(cè)部的主體,該環(huán)形側(cè)部以大約30度到大約45度中的任何角度從第一部分延伸到第二部分。
進一步根據(jù)前述第一和第二方面中的任何一個或多個方面,該閥塞組件或該流體控制設備中的一個或多個可以包括以下形式中的任何一種或多種。
根據(jù)一個方面,座環(huán)具有縱向軸線A,并且就座表面的初級部分的初級角度可以以與該座環(huán)的縱向軸線A成大約20度或大約45度或大約20度至大約45度之間的任何度數(shù)進行延伸。另外,就座表面的初級部分的初級角度可以是大約45度。此外,座環(huán)可以包括縱向軸線A以及垂直于該座環(huán)的縱向軸線A的橫向軸線B。另外,座環(huán)還可以包括次級部分,該次級部分以與座環(huán)的橫向軸線B成大約10度的角度從初級部分進行延伸。此外,在另一個示例中,該初級部分可以從座環(huán)的縱向軸線A以大約45度的角度進行延伸。
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