[發明專利]一種光化學除去氧氣來保護光敏劑的三重激發態的方法及其應用

在審

• 申請號: 201810245907.2
• 申請日: 2018-03-23
• 公開（公告）號: CN108359267A
• 公開（公告）日: 2018-08-03
• 發明（設計）人: 林進雄;萬仕剛;陸為
• 申請（專利權）人: 南方科技大學
• 主分類號: C09B47/04
• 分類號: C09B47/04;C09B57/00;C09B57/08
• 代理公司: 北京品源專利代理有限公司 11332
• 代理人: 鞏克棟

1.一種光化學除去氧氣來保護光敏劑的三重激發態的方法，其特征在于，所述方法為：向溶劑中加入光敏劑，并使用激發光照射含有光敏劑的溶劑。

2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述溶劑包括N-甲基吡咯烷酮、N-甲基氧化嗎啉、1,3-二甲基丙撐脲、1,3-二甲基-2-咪唑啉酮、二甲基亞砜或四亞甲基亞砜中的任意一種或至少兩種的組合。

3.根據權利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述光敏劑包括卟啉類光敏劑、酞菁類光敏劑、金屬絡合多聯吡啶類光敏劑、金屬乙炔類光敏劑、環金屬絡合物類光敏劑以及氟硼吡咯染料衍生物類光敏劑中的任意一種或至少兩種的組合；

優選地，所述卟啉類光敏劑包括擴增的卟啉、含有取代基的卟啉或金屬卟啉絡合物中的任意一種或至少兩種的組合；

優選地，所述酞菁類光敏劑包括擴增的酞菁、含有取代基的酞菁或金屬酞菁絡合物中的任意一種或至少兩種的組合；

優選地，所述金屬包括Li、Mg、Al、Ti、V、VO、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Ga、Ru、Pd、Ag、Re、Os、Ir、Pt、Pb、U或UO₂中的任意一種或至少兩種的組合。

4.根據權利要求1-3任一項所述的方法，其特征在于，所述光敏劑的濃度為5×10^-6～1×10^-4mol/L。

5.根據權利要求1-4任一項所述的方法，其特征在于，所述激發光的光能量密度為0.2mW cm^-2～50mW cm^-2。

6.根據權利要求1-5任一項所述的方法，其特征在于，所述方法為：向N-甲基吡咯烷酮、N-甲基氧化嗎啉、1,3-二甲基丙撐脲、1,3-二甲基-2-咪唑啉酮、二甲基亞砜或四亞甲基亞砜中的任意一種溶劑或至少兩種的混合溶劑中加入光敏劑，光敏劑濃度為5×10^-6～1×10^-4mol/L，并使用光能量密度為0.2mW cm^-2～50mW cm^-2的激發光照射含有光敏劑的溶劑，其中所述光敏劑為卟啉類光敏劑、酞菁類光敏劑、金屬絡合多聯吡啶類光敏劑、金屬乙炔類光敏劑、環金屬絡合物類光敏劑以及氟硼吡咯染料衍生物類光敏劑中的任意一種或至少兩種的組合。

7.一種權利要求1-6任一項所述方法的應用，其特征在于，所述方法應用于光刻和三重態-三重態湮滅光子上轉換。