[發明專利]一種硅片清洗后簡單有效的保存方法在審

申請號：	201810242584.1	申請日：	2018-03-23
公開（公告）號：	CN108447943A	公開（公告）日：	2018-08-24
發明（設計）人：	黃仕華;黃玉清;芮哲;王佳	申請（專利權）人：	浙江師范大學
主分類號：	H01L31/18	分類號：	H01L31/18
代理公司：	杭州之江專利事務所(普通合伙) 33216	代理人：	朱楓
地址：	321004 ***	國省代碼：	浙江;33
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摘要：
搜索關鍵詞：	界面態密度二氧化硅硅片清洗硅片保存無水乙醇溶液異丙醇溶液氮氣吹干去離子水外界空氣自然密封生長隔絕層濃硝酸致密性袋中沖洗浸泡清洗
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【權利要求書】：

1.一種硅片清洗后簡單有效的保存方法，其特征在于：包括如下步驟：通過丙酮和無水乙醇去表面油污，然后用25wt％NaOH溶液對硅片進行去損傷層30μm，再用標準RCA清洗法對硅片進行清洗，然后用1％HF去除硅片氧化層，得到干凈疏水的硅片表面，將其浸泡于質量濃度為68％的HNO₃中，121℃油浴加熱10min，從而在清潔硅片表面生長一層二氧化硅層，以隔絕硅片表面與外界的接觸，然后用氮氣吹干保存于自然密封袋中，待使用前用1％HF溶液完全去除二氧化硅層，氮氣吹干即可投入下一步工藝使用。

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