[發明專利]檢測設備及方法、圖案形成設備、獲取方法和制造方法

有效

• 申請號: 201810242026.5
• 申請日: 2018-03-22
• 公開（公告）號: CN108681209B
• 公開（公告）日: 2021-01-01
• 發明（設計）人: 藤嶋浩史
• 申請（專利權）人: 佳能株式會社
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G03F9/00
• 代理公司: 北京魏啟學律師事務所 11398
• 代理人: 魏啟學

1.一種檢測設備，用于檢測基板上所形成的標記，所述檢測設備包括：

基板保持器，用于保持所述基板；

光學系統，其被容納在所述基板保持器中；

圖像傳感器，用于經由所述光學系統從所述基板的下表面側拍攝所述標記的圖像；以及

處理器，用于基于所述圖像傳感器所拍攝的所述標記的圖像來進行對所述標記的檢測處理，

其中，所述處理器被配置成基于所述標記在所述基板上的高度方向的位置和與所述光學系統的遠心度有關的信息，來校正所述標記的檢測值，以及

其中，所述處理器基于所述標記在所述位置是第一位置的情況下的檢測值和所述標記在所述位置是不同于第一位置的第二位置的情況下的檢測值，獲得與所述光學系統的遠心度有關的信息。

2.根據權利要求1所述的檢測設備，其中，所述處理器被配置成校正所檢測到的標記的位置的檢測值。

3.根據權利要求1所述的檢測設備，其中，所述遠心度包括與所述光學系統的各像高處的主光線的傾斜有關的信息。

4.根據權利要求1所述的檢測設備，其中，所述處理器被配置成通過使用利用所述標記的位置的坐標值作為變量的校正函數來校正所述檢測值。

5.根據權利要求4所述的檢測設備，其中，所述校正函數包括依賴于所述標記的所述高度方向的位置的系數。

6.根據權利要求1所述的檢測設備，其中，所述處理器被配置成在校準模式下，使用所述圖像傳感器在不經由所述光學系統的情況下從所述基板保持器所保持的調整基板的上表面側拍攝所述調整基板上的第一標記的圖像，來獲得所述第一標記的位置的第一檢測值，并且使用所述圖像傳感器經由所述光學系統從所述調整基板的下表面側拍攝所述第一標記的圖像，來獲得所述第一標記的位置的第二檢測值，從而在所述調整基板上的所述第一標記處于第一高度位置的狀態以及所述第一標記處于與所述第一高度位置不同的第二高度位置的狀態中的各個狀態下，獲得與所述遠心度有關的信息。

7.根據權利要求6所述的檢測設備，其中，通過反轉所述調整基板來改變所述第一標記的所述第一高度位置和所述第二高度位置。

8.根據權利要求1所述的檢測設備，其中，所述處理器被配置成還基于所述基板保持器的估計變形量來校正所述檢測值。

9.根據權利要求8所述的檢測設備，其中，所述處理器被配置成基于與所述基板保持器的熱膨脹/收縮有關的熱膨脹系數來估計所述估計變形量。

10.根據權利要求1所述的檢測設備，其中，還包括測量單元，所述測量單元用于測量所述標記的所述高度方向的位置。

11.一種圖案形成設備，用于在基板上形成圖案，其中，所述圖案形成設備包括根據權利要求1～10中任一項所述的檢測設備。

12.一種獲取方法，用于獲得被容納在用于保持基板的基板保持器中的光學系統的特性信息，所述獲取方法包括以下步驟：

使用圖像傳感器在不經由所述光學系統的情況下從所述基板保持器所保持的調整基板的上表面側拍攝所述調整基板上的第一標記的圖像，來獲得所述第一標記的位置的第一檢測值，并且使用所述圖像傳感器經由所述光學系統從所述調整基板的下表面側拍攝所述第一標記的圖像，來獲得所述第一標記的位置的第二檢測值，從而在所述基板保持器所保持的所述調整基板上的所述第一標記處于第一高度位置的狀態以及所述第一標記處于與所述第一高度位置不同的第二高度位置的狀態中的各個狀態下，獲得與所述光學系統的遠心度有關的信息。