[發(fā)明專利]基板粘附防止薄膜、臺板及基板輸送方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201810238605.2 | 申請日： | 2018-03-22 |
| 公開（公告）號： | CN108628105B | 公開（公告）日： | 2022-03-18 |
| 發(fā)明（設計）人： | 名古屋淳;目黑崇 | 申請（專利權）人： | 株式會社阿迪泰克工程 |
| 主分類號： | G03F7/20 | 分類號： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 永新專利商標代理有限公司 72002 | 代理人： | 徐殿軍 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 粘附 防止 薄膜 輸送 方法 | ||
1.一種曝光裝置，對基板照射規(guī)定的圖案的光并對基板進行曝光，其特征在于，具備：
臺板，載置被處理的基板；
光照射單元，對載置于臺板的基板照射規(guī)定的圖案的光并進行曝光；及
基板粘附防止薄膜，覆蓋臺板的基板載置區(qū)域，
臺板具有用于將基板真空吸附的基板用真空吸附孔及用于將基板粘附防止薄膜真空吸附的薄膜用真空吸附孔；
基板粘附防止薄膜在與臺板的基板用真空吸附孔對應的位置處具有用來將基板真空吸附的基板吸附孔，在偏離基板吸附孔的位置設有用來檢測相對于臺板的位置偏移的標記，
上述曝光裝置還具備：檢測基板粘附防止薄膜的標記的傳感器，以及基于傳感器的檢測結(jié)果判斷基板粘附防止薄膜相對于臺板是否位置偏移的控制器。
2.如權利要求1所述的曝光裝置，其特征在于，
上述基板吸附孔比上述臺板具有的上述基板用真空吸附孔小。
3.如權利要求1所述的曝光裝置，其特征在于，
上述基板吸附孔比上述臺板具有的上述基板用真空吸附孔大。
4.一種曝光裝置的動作方法，是使權利要求1～3中任一項所述的上述曝光裝置動作的曝光方法，其特征在于，
上述曝光裝置具備輸送系統(tǒng)，
上述基板用真空吸附孔和上述薄膜用真空吸附孔連通到相互不同系統(tǒng)的排氣通路，通過薄膜用真空吸附孔的吸引除了在曝光中還在曝光后由輸送系統(tǒng)將基板從臺板運出時也繼續(xù)。
5.如權利要求4所述的曝光裝置的動作方法，其特征在于，
在由上述輸送系統(tǒng)將基板輸送到上述臺板之前，用傳感器檢測上述標記有沒有偏移，在偏移的情況下將輸送中止。
6.如權利要求4或5所述的曝光裝置的動作方法，其特征在于，
在由上述輸送系統(tǒng)將基板輸送到上述臺板之前檢查上述薄膜用真空吸附孔是否被閉鎖，在沒有被閉鎖的情況下將輸送中止。
7.一種基板粘附防止薄膜，是被使用在權利要求1～3中任一項所述的上述曝光裝置中的基板粘附防止薄膜，其特征在于，
設有用于檢測相對于上述臺板的位置偏移的標記，標記被設在成為上述基板載置區(qū)域的外側(cè)的位置。
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