[發明專利]描繪裝置、描繪方法以及記錄介質

有效

• 申請號: 201810236435.4
• 申請日: 2018-03-21
• 公開（公告）號: CN108618342B
• 公開（公告）日: 2021-05-14
• 發明（設計）人: 山崎修一
• 申請（專利權）人: 卡西歐計算機株式會社
• 主分類號: A45D29/00
• 分類號: A45D29/00
• 代理公司: 北京銀龍知識產權代理有限公司 11243
• 代理人: 曾賢偉;郝慶芬

本發明涉及描繪裝置、描繪方法以及記錄介質。一種描繪裝置，其特征在于，該描繪裝置具備處理器，所述處理器獲取作為描繪對象的手或腳的指甲的區域的長寬比，在根據所述指甲的區域的長寬比改變美甲設計的長寬比來使所述美甲設計嵌合于所述指甲的區域的第1嵌合模式中，將所述美甲設計的長寬比的變化率設定為不超過對應于所述美甲設計的界限變化率的范圍的值。

技術領域

本發明涉及描繪裝置、描繪方法以及記錄介質。

背景技術

以往，已知一種在人的手指的指甲上描繪喜歡的美甲設計的描繪裝置(將其稱為“美甲打印裝置”。)(例如，參照日本國特表2003-534083號公報)。

如果使用像這樣的裝置，可以不使用美甲沙龍等而容易地享受美甲打印。

為了在指甲上描繪美甲設計，需要識別指甲的形狀，并對其嵌合美甲設計，例如采取一種方法，其將美甲設計壓縮至適合與指甲的外周接觸的矩形的外接框的尺寸。

如果美甲設計原本的長寬比和指甲的長寬比大致相同，則可以大致按照預想地使美甲設計嵌合指甲。

然而，指甲的形狀形形色色，當與美甲設計的原本的長寬比相比，形狀是縱向的長度相對于指甲的橫向的長度更長時，如果將美甲設計嵌合指甲，則設計在整體上被縱向拉伸，變得不自然。

另外，相反地，當與美甲設計的原本的長寬比相比，形狀是橫向的長度相對于指甲的縱向的長度更長時，設計呈整體被橫向壓縮的狀態，將形成與原本的美甲設計不同的印象。

作為將美甲設計嵌合指甲的方法，除此之外，還考慮不改變美甲設計的原本的長寬比來嵌合指甲。

但是，對于該方法，當指甲是縱向或者橫向極短的形狀時，美甲設計會在指甲的長度短的一側大量超出，從而設計整體可能無法適當地容納在指甲上。

發明內容

本發明是鑒于以上情況而完成的，并提供具有能夠盡量按照預想地將美甲設計嵌合描繪在指甲上的優點的描繪裝置以及描繪方法。

一種描繪裝置，其特征在于，該描繪裝置具備處理器，所述處理器獲取作為描繪對象的手或腳的指甲的區域的長寬比，在根據所述指甲的區域的長寬比改變美甲設計的長寬比來使所述美甲設計嵌合于所述指甲的區域的第1嵌合模式中，將所述美甲設計的長寬比的變化率設定為不超過對應于所述美甲設計的界限變化率的范圍的值。

一種描繪方法，其特征在于，所述描繪方法包括以下步驟：指甲區域取得步驟，其獲取作為描繪對象的手或腳的指甲的區域的長寬比；以及設計嵌合步驟，其在根據所述指甲的區域的長寬比改變美甲設計的長寬比來使所述美甲設計嵌合于所述指甲的區域的第1嵌合模式中，將所述美甲設計的所述長寬比的變化率設為不超過針對所述美甲設計所設定的界限變化率的范圍的值。

一種可讀取的記錄介質，其記錄了描繪裝置用的程序，其特征在于，所述描繪裝置用的程序用于使所述描繪裝置的處理器執行以下處理：獲取作為描繪對象的手或腳的指甲的區域的長寬比的處理；以及在根據所述指甲的區域的長寬比改變美甲設計的長寬比來使所述美甲設計嵌合于所述指甲的區域的第1嵌合模式中，將所述美甲設計的長寬比的變化率設定為不超過與所述美甲設計相對應的界限變化率的范圍的值的處理。

附圖說明

圖1的圖1A是本實施方式中的描繪裝置的正面圖，圖1B是表示圖1A示出的描繪裝置的內部結構的側面圖。

圖2是表示本實施方式所涉及的描繪裝置的控制結構的主要部分的框圖。

圖3是表示美甲設計的一個例子的俯視圖。

圖4是表示指甲的一個例子的俯視圖。

圖5是表示本實施方式中的嵌合處理的流程圖。

圖6的圖6A～圖6C是示意性地表示圖5的嵌合處理的說明圖。