[發(fā)明專利]一種光刻膠的制備方法,光刻膠及濾光片在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201810234812.0 | 申請日: | 2018-03-21 |
| 公開(公告)號: | CN108508701A | 公開(公告)日: | 2018-09-07 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 于曉平 | 申請(專利權(quán))人: | 深圳市華星光電技術(shù)有限公司 |
| 主分類號: | G03F7/027 | 分類號: | G03F7/027;G03F7/004;G03F7/075;G02B5/22 |
| 代理公司: | 深圳市威世博知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 44280 | 代理人: | 鐘子敏 |
| 地址: | 518006 廣東*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 制備 光刻膠 顏料溶液 引發(fā)劑 水解縮聚反應(yīng) 光反應(yīng)單體 分散處理 硅烷偶聯(lián)劑 聚合反應(yīng) 分散劑 濾光片 感度 申請 | ||
1.一種光刻膠的制備方法,其特征在于,所述方法包括:
制備獲得顏料溶液;
將包括引發(fā)劑基團(tuán)的硅烷偶聯(lián)劑加入所述顏料溶液中,進(jìn)行水解縮聚反應(yīng);
或者,將顏料溶液與包括引發(fā)劑基團(tuán)的分散劑混合,進(jìn)行分散處理;
將水解縮聚反應(yīng)或分散處理后的顏料溶液與光反應(yīng)單體進(jìn)行混合以得到所述光刻膠;
其中,所述引發(fā)劑基團(tuán)用于引發(fā)所述光反應(yīng)單體的聚合反應(yīng)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法,其特征在于,所述方法進(jìn)一步包括:
將硅烷偶聯(lián)劑與引發(fā)劑合成得到包括引發(fā)劑基團(tuán)的硅烷偶聯(lián)劑;
或者,將分散劑與引發(fā)劑合成得到包括引發(fā)劑基團(tuán)的分散劑。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法,其特征在于,所述引發(fā)劑基團(tuán)包括光引發(fā)劑基團(tuán)或助引發(fā)劑基團(tuán);所述光引發(fā)劑基團(tuán)包括不飽和鍵,所述助引發(fā)劑基團(tuán)包括叔胺類基團(tuán)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法,其特征在于,所述制備獲得顏料溶液,包括:
利用聚電解質(zhì)對顏料進(jìn)行處理,以獲得顏料溶液,所述顏料溶液中顏料的表面帶有正電荷。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的制備方法,其特征在于,所述利用聚電解質(zhì)對顏料進(jìn)行處理,包括:
將顏料與PSS和去離子水混合,使所述顏料表面帶有負(fù)電荷;
然后將表面帶有負(fù)電荷的顏料溶解在PDDA溶液中,使得所述顏料表面帶有正電荷。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法,其特征在于,所述將硅烷偶聯(lián)劑加入所述顏料溶液中,包括:
將氨溶液和硅烷偶聯(lián)劑混合后加入所述顏料溶液中。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法,其特征在于,所述將硅烷偶聯(lián)劑加入所述顏料溶液中,進(jìn)行水解縮聚反應(yīng),包括:
將硅烷偶聯(lián)劑加入所述顏料溶液中,在常溫下進(jìn)行水解縮聚反應(yīng)10~30小時(shí)。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法,其特征在于,所述將水解縮聚反應(yīng)或分散處理后的顏料溶液與光反應(yīng)單體進(jìn)行混合以得到所述光刻膠,包括:
將水解縮聚反應(yīng)或分散處理后的顏料溶液與光反應(yīng)單體、樹脂、開始劑、添加劑以及溶劑進(jìn)行混合以得到所述光刻膠。
9.一種光刻膠,其特征在于,所述光刻膠包括顏料和光反應(yīng)單體,進(jìn)一步包括具有引發(fā)劑基團(tuán)的硅氧聚合物或分散劑,其中所述引發(fā)劑基團(tuán)用于引發(fā)所述光反應(yīng)單體的聚合反應(yīng)。
10.一種濾光片,其特征在于,所述濾光片由權(quán)利要求9中所述的光刻膠制得。
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