[發明專利]锍鹽、抗蝕劑組合物及圖案形成方法

有效

• 申請號: 201810234145.6
• 申請日: 2018-03-21
• 公開（公告）號: CN108623506B
• 公開（公告）日: 2022-08-05
• 發明（設計）人: 藤原敬之;三井亮;片山和弘
• 申請（專利權）人: 信越化學工業株式會社
• 主分類號: C07C381/12
• 分類號: C07C381/12;C07C309/12;C07C309/30;C07C309/31;C07C303/32;C07C59/115;C07C51/41;C07D335/02;C07D333/46;G03F7/004
• 代理公司: 北京路浩知識產權代理有限公司 11002
• 代理人: 張晶;謝順星

1.一種锍鹽，其用作光產酸劑且含有陰離子及陽離子，其特征在于，

所述陽離子具有下述通式(1)所示的局部結構，且為下述通式(2)所示的锍鹽或下述(PAG-1)、(PAG-12)、(PAG-13)、(PAG-15)及(PAG-16)中的任一種的锍鹽，

式中，R^fa及R^fb各自獨立地為碳原子數為1～4的氟烷基；R^Xa為甲氧基甲基或烷氧羰基；R^a及R^b均為氫原子；A^1a為醚鍵或硫醚鍵；L^1a為單鍵；＊表示結合鍵，

式中，R¹、R²及R³各自獨立地為氫原子、所述通式(1)所示的局部結構、可含雜原子的碳原子數為1～20的直鏈狀、支鏈狀或環狀的一價烴基；p1、q1及r1各自獨立地為0～5的整數；p1、q1或r1為2以上時，所對應的多個R¹、R²、或R³可相同或不同；其中，R¹、R²、及R³中的一個以上為所述通式(1)所示的局部結構，此時，所述通式(1)中的＊表示與苯環的結合鍵；Z^－為一價的陰離子，

其中，排除具有下述通式(1’)所示的陽離子的锍鹽，

式中，R^fa及R^fb與上述相同，

2.根據權利要求1所述的锍鹽，其特征在于，所述通式(1)中的R^fa及R^fb為三氟甲基。

3.根據權利要求1所述的锍鹽，其特征在于，所述通式(1)中的A^1a為醚鍵。

4.根據權利要求1所述的锍鹽，其特征在于，所述陰離子為下述通式(3)所示的陰離子，

式中，R¹⁰為可含雜原子的碳原子數為1～40的直鏈狀、支鏈狀或環狀的一價烴基；L為單鍵或二價的連接基團；X^f1及X^f2各自獨立地為氫原子或氟原子，或為被一個以上的氟原子取代的烷基；k為0～4的整數。

5.根據權利要求1所述的锍鹽，其特征在于，所述陰離子為下述通式(4a)、(4b)、或(4c)所示的陰離子，

式中，R¹⁰為可含雜原子的碳原子數為1～40的直鏈狀、支鏈狀或環狀的一價烴基；L為單鍵或二價的連接基團；A為氫原子或三氟甲基；s為0～5的整數。

6.一種抗蝕劑組合物，其特征在于，該抗蝕劑組合物含有：

(A)權利要求1～5中任一項所述的锍鹽；

(B)基體樹脂；及

(C)有機溶劑。

7.根據權利要求6所述的抗蝕劑組合物，其特征在于，所述抗蝕劑組合物進一步含有選自以下成分中的一種以上：

(D)除所述(A)成分以外的光產酸劑；

(E)猝滅劑；及

(F)表面活性劑。