[發(fā)明專利]一種電沉積流體動力學(xué)檢測裝置在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201810229819.3 | 申請日: | 2018-03-20 |
| 公開(公告)號: | CN108375466A | 公開(公告)日: | 2018-08-07 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 秦建新;王平平;王立惠;林峰 | 申請(專利權(quán))人: | 中國有色桂林礦產(chǎn)地質(zhì)研究院有限公司;貴州省特種設(shè)備檢驗檢測院 |
| 主分類號: | G01M10/00 | 分類號: | G01M10/00;G01N27/30 |
| 代理公司: | 桂林市持衡專利商標事務(wù)所有限公司 45107 | 代理人: | 唐智芳 |
| 地址: | 541004 廣西*** | 國省代碼: | 廣西;45 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 陽極 電解槽 陰極 磁場分布 底座 流體動力學(xué) 旋轉(zhuǎn)軸 旋轉(zhuǎn)控制裝置 檢測裝置 電沉積 升降 輸出軸同軸 測試 電場分布 絕緣材料 流體傳質(zhì) 螺桿固定 軸線重合 耦合作用 重合 底端 固接 螺桿 制作 | ||
1.一種電沉積流體動力學(xué)檢測裝置,包括升降旋轉(zhuǎn)控制裝置(8)、底座(6)和固定于底座(6)上的電解槽(2),其特征在于:
在電解槽(2)中設(shè)置有圓盤陽極(5)、磁場分布塊(4)和圓盤陰極(3),在圓盤陰極(3)上固接有旋轉(zhuǎn)軸(1),該旋轉(zhuǎn)軸(1)與升降旋轉(zhuǎn)控制裝置(8)的輸出軸同軸連接;
所述的圓盤陽極(5)置于電解槽(2)的底端面上,并通過螺桿(7)固定于底座(6)上,該螺桿7的軸線與所述圓盤陽極(5)的軸線重合;所述的磁場分布塊(4)位于圓盤陽極(5)和圓盤陰極(3)之間,所述電解槽(2)的軸線、磁場分布塊(4)縱向方向上的中心線、旋轉(zhuǎn)軸(1)的軸線、圓盤陽極(5)的軸線和圓盤陰極(3)的軸線相重合;
所述的底座(6)、電解槽(2)、磁場分布塊4采用絕緣材料制作而成;
所述的磁場分布塊(4)具有以下三種結(jié)構(gòu)中的一種:
第一種:倒錐臺形結(jié)構(gòu),此時,所述的磁場分布塊(4)為實心體,由一段圓柱及與該圓柱相連的圓臺組成,所述圓柱的半徑與圓臺的下底半徑相同,該圓柱的半徑小于電解槽(2)的半徑;所述磁場分布塊(4)的底端面與圓盤陽極(5)的上表面接觸;
當磁場分布塊(4)的結(jié)構(gòu)為倒錐臺形結(jié)構(gòu)時,所述固定圓盤陽極(5)的螺桿7的前端伸入磁場分布塊(4)中,在螺桿(7)與磁場分布塊(4)相接觸的部分套有絕緣材料制作的蓋帽;
第二種:嗽叭形結(jié)構(gòu),此時,所述的磁場分布塊(4)為一圓柱體,該圓柱體脹緊于電解槽(2)中,在圓柱體內(nèi)部開設(shè)有截面呈柱形的第一通道以及與第一通道連通且截面呈梯形的第二通道,其中,第二通道口徑小的一端與第一通道連接,第二通道口徑大的一端延伸至電解槽(2)的底部,且與電解槽(2)的底端面接觸;所述第二通道的最大口徑與電解槽(2)的口徑相同;
第三種:隔板結(jié)構(gòu),此時,所述的磁場分布塊(4)為一圓柱體,該圓柱體脹緊于電解槽(2)中,在圓柱體內(nèi)部開設(shè)有截面呈柱形的第一通道以及與第一通道連通且截面呈梯形的第二通道,其中,第二通道口徑小的一端與第一通道連接,第二通道口徑大的一端延伸至電解槽(2)的底部,且與電解槽(2)的底端面接觸,所述第二通道的最大口徑與電解槽(2)的口徑相同;在第一通道與第二通道的連接處設(shè)置有一隔板(9),其上均勻開設(shè)有貫穿該隔板(9)的圓孔。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電沉積流體動力學(xué)檢測裝置,其特征在于:所述圓盤陰極(3)的側(cè)表面及其上表面設(shè)置有絕緣層。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電沉積流體動力學(xué)檢測裝置,其特征在于:在電解槽(2)上設(shè)置有刻度線。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電沉積流體動力學(xué)檢測裝置,其特征在于:所述的升降旋轉(zhuǎn)控制裝置(8)為攪拌機或分散機。
5.根據(jù)權(quán)利要求1-4中任一項所述的電沉積流體動力學(xué)檢測裝置,其特征在于:電解槽(2)的半徑為75mm,圓盤陽極(5)的半徑均為60mm、厚度為2mm,圓盤陰極(3)的半徑和厚度均與圓盤陽極(5)相同。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的電沉積流體動力學(xué)檢測裝置,其特征在于:當磁場分布塊(4)為倒錐臺形結(jié)構(gòu)時,其整體高度為66mm,其中圓柱的半徑為65mm、高度為10mm,圓臺的上底半徑為2.5mm。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的電沉積流體動力學(xué)檢測裝置,其特征在于:當磁場分布塊(4)為嗽叭形結(jié)構(gòu)時,其整體高度為66mm,其中第一通道的口徑為20mm、高度為15mm。
8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的電沉積流體動力學(xué)檢測裝置,其特征在于:當磁場分布塊(4)為隔板結(jié)構(gòu)時,其整體高度為66mm,其中第一通道的口徑為100mm、高度為35mm。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于中國有色桂林礦產(chǎn)地質(zhì)研究院有限公司;貴州省特種設(shè)備檢驗檢測院,未經(jīng)中國有色桂林礦產(chǎn)地質(zhì)研究院有限公司;貴州省特種設(shè)備檢驗檢測院許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201810229819.3/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。





