[發(fā)明專利]一種液晶顯示器及其制備方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201810229791.3 | 申請(qǐng)日: | 2018-03-20 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN108490675A | 公開(kāi)(公告)日: | 2018-09-04 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 海博 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 惠州市華星光電技術(shù)有限公司 |
| 主分類號(hào): | G02F1/1335 | 分類號(hào): | G02F1/1335;G02F1/13363 |
| 代理公司: | 深圳市威世博知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 44280 | 代理人: | 程利 |
| 地址: | 516000 廣東省惠州市仲愷高新技術(shù)*** | 國(guó)省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 波片層 液晶顯示器 彩膜基板 下偏光層 互相垂直 上偏光層 陣列基板 吸收軸 光軸 制備 穿透率 反射光 液晶層 | ||
1.一種液晶顯示器,其特征在于,所述液晶顯示器包括:
陣列基板;
彩膜基板,與所述陣列基板相對(duì)設(shè)置;
液晶層,夾設(shè)在所述陣列基板和所述彩膜基板之間;
第一1/4波片層,設(shè)置在所述陣列基板上;
上偏光層,設(shè)置在所述第一1/4波片層上;
下偏光層,設(shè)置在所述彩膜基板上,所述下偏光層的吸收軸與所述上偏光層的吸收軸互相垂直;
其中,所述下偏光層和所述彩膜基板之間還設(shè)有第二1/4波片層,所述第二1/4波片層的光軸與所述第一1/4波片層的光軸互相垂直。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液晶顯示器,其特征在于,所述第一1/4波片層的光軸為45°,所述第二1/4波片層的光軸為135°;所述第一1/4波片層的光軸為135°,所述第二1/4波片層的光軸為45°。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的液晶顯示器,其特征在于,所述上偏光層的吸收軸為0°,所述下偏光層的吸收軸為90°;所述上偏光層的吸收軸為90°,所述下偏光層的吸收軸為0°。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液晶顯示器,其特征在于,所述陣列基板中還包括金屬線,所述金屬線的材質(zhì)為鋁或銅。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的液晶顯示器,其特征在于,所述第一1/4波片層的面內(nèi)相位差為125nm-150nm,所述第二1/4波片層的面內(nèi)相位差為125nm-150nm;或所述第一1/4波片層的面內(nèi)相位差為137.5nm-162.5nm,所述第二1/4波片層的面內(nèi)相位差為137.5nm-162.5nm。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的液晶顯示器,其特征在于,所述第一1/4波片層的面內(nèi)相位差為135nm-145nm,所述第二1/4波片層的面內(nèi)相位差為135nm-145nm;或所述第一1/4波片層的面內(nèi)相位差為145nm-150nm,所述第二1/4波片層的面內(nèi)相位差為145nm-150nm。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液晶顯示器,其特征在于,所述第一1/4波片層和所述第二1/4波片層的材質(zhì)相同或不同。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液晶顯示器,其特征在于,所述第一1/4波片層的材質(zhì)包括三醋酸纖維素和環(huán)烯烴聚合物和所述第二1/4波片層的材質(zhì)包括三醋酸纖維素和環(huán)烯烴聚合物。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液晶顯示器,其特征在于,所述液晶顯示器還包括第一補(bǔ)償層和/或第二補(bǔ)償層,所述第一補(bǔ)償層設(shè)置在所述第一1/4波片層和所述陣列基板之間或所述第一補(bǔ)償層設(shè)置在所述第一1/4波片層與所述上偏光層之間;所述第二補(bǔ)償層設(shè)置在所述第二1/4波片層和所述彩膜基板之間或所述第二補(bǔ)償層設(shè)置在所述第二1/4波片層與所述下偏光層之間。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液晶顯示器,其特征在于,所述液晶顯示器還包括:
第一保護(hù)層,設(shè)置在所述上偏光層上遠(yuǎn)離所述陣列基板一側(cè);
第二保護(hù)層,設(shè)置在所述下偏光層上遠(yuǎn)離所述彩膜基板一側(cè)。
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G02F 用于控制光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過(guò)改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來(lái)修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來(lái)自獨(dú)立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對(duì)強(qiáng)度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的





