[發(fā)明專利]瓦斯器具與瓦斯閥及其控制方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201810228986.6 | 申請日: | 2018-03-20 |
| 公開(公告)號: | CN110307371A | 公開(公告)日: | 2019-10-08 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 黃重景;黃錦穎;黃信銘;黃信雄;葉嚴仁 | 申請(專利權(quán))人: | 關(guān)隆股份有限公司 |
| 主分類號: | F16K17/20 | 分類號: | F16K17/20;F16K31/02;F16K37/00;F23D14/00;F23N5/00 |
| 代理公司: | 中科專利商標代理有限責任公司 11021 | 代理人: | 任巖 |
| 地址: | 中國臺灣臺*** | 國省代碼: | 中國臺灣;71 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 瓦斯流量 偵測元件 瓦斯閥 流量調(diào)節(jié)件 閥體 步進馬達 控制裝置 瓦斯器具 燃燒器 熱膜 連通燃燒器 比對結(jié)果 出氣通道 氣通道 探測端 瓦斯源 比對 馬達 暴露 流通 | ||
1.一種瓦斯閥,包含:
一閥體,具有一入氣口、一出氣口、一入氣通道連通該入氣口、一出氣通道連通該出氣口,及一閥口位于該入氣通道與該出氣通道之間;
一流量調(diào)節(jié)件,可移動地設(shè)置于該閥體且位于該閥口處,該流量調(diào)節(jié)件受帶動而改變該閥口的開啟程度;
一熱膜式流量偵測元件,設(shè)置于該閥體,該熱膜式流量偵測元件具有一探測端,該探測端包括一熱膜電阻暴露于該出氣通道,用以偵測通過該出氣通道的瓦斯流量;以及
一驅(qū)動器,設(shè)置于該閥體且連接該流量調(diào)節(jié)件,該驅(qū)動器接收一控制信號用以帶動該流量調(diào)節(jié)件移動。
2.如權(quán)利要求1所述的瓦斯閥,其中該熱膜式流量偵測元件包括一基板,且該熱膜電阻設(shè)置于該基板上。
3.如權(quán)利要求1所述的瓦斯閥,包含一整流件,設(shè)置于該出氣通道中,該熱膜式流量偵測元件的探測端位于該整流件與該出氣口之間。
4.如權(quán)利要求3所述的瓦斯閥,其中該整流件具有多個次通道。
5.如權(quán)利要求3所述的瓦斯閥,其中該出氣通道具有一第一段與一第二段,該第一段位于該整流件與該第二段之間,該第二段位于該第一段與該出氣口之間;該熱膜式流量偵測元件的探測端位于該第二段。
6.如權(quán)利要求3所述的瓦斯閥,其中該出氣通道的該第一段與該第二段的內(nèi)徑相同。
7.如權(quán)利要求5所述的瓦斯閥,其中該閥體包含一本體與一管件,該本體具有該入氣口、該入氣通道及一連接通道,且該閥口位于該入氣通道與該連接通道之間,該管件連接于該連接通道,且該管件具有該出氣通道與該出氣口;該熱膜式流量偵測元件設(shè)置于該管件。
8.如權(quán)利要求7所述的瓦斯閥,其中該管件包括相連接的一螺紋管與一外管;該連接通道具有一內(nèi)螺紋與該螺紋管結(jié)合;該外管具有該第二段的至少一部分,且該外管位于該本體之外,該熱膜式流量偵測元件設(shè)置于該外管。
9.如權(quán)利要求8所述的瓦斯閥,其中該外管具有一凹孔自該第二段的壁面凹入;該熱膜式流量偵測元件位于該凹孔中。
10.一種瓦斯器具,包含:
一燃燒器,用以燃燒瓦斯產(chǎn)生火焰;
一瓦斯閥,包括一閥體、一流量調(diào)節(jié)件、一熱膜式流量偵測元件與一驅(qū)動器,其中:
該閥體具有一入氣口、一出氣口、一入氣通道連通該入氣口、一出氣通道連通該出氣口,及一閥口位于該入氣通道與該出氣通道之間;其中,該入氣口供連接一瓦斯源,該出氣口連通該燃燒器;
該流量調(diào)節(jié)件可移動地設(shè)置于該閥體且位于該閥口處,該流量調(diào)節(jié)件受帶動而改變該閥口的開啟程度;
該熱膜式流量偵測元件設(shè)置于該閥體,該熱膜式流量偵測元件具有一探測端,該探測端包括一熱膜電阻暴露于該出氣通道,用以偵測通過該出氣通道的瓦斯流量;
該驅(qū)動器設(shè)置于該閥體且連接該流量調(diào)節(jié)件,該驅(qū)動器接收一控制信號用以帶動該流量調(diào)節(jié)件移動;
一控制裝置,電性連接該熱膜式流量偵測元件與該驅(qū)動器,該控制裝置依據(jù)一預(yù)定瓦斯流量輸出該控制信號以控制該驅(qū)動器帶動該流量調(diào)節(jié)件,使該熱膜式流量偵測元件所測得的瓦斯流量維持于該預(yù)定瓦斯流量。
11.如權(quán)利要求10所述的瓦斯器具,其中該熱膜式流量偵測元件包括一基板,且該熱膜電阻設(shè)置于該基板上。
12.如權(quán)利要求10所述的瓦斯器具,包含一整流件,設(shè)置于該出氣通道中,該熱膜式流量偵測元件的探測端位于該整流件與該出氣口之間。
13.如權(quán)利要求12所述的瓦斯器具,其中該整流件具有多個次通道。
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