[發(fā)明專(zhuān)利]一種流體剪切力生成裝置與流體剪切力生成方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201810228424.1
• 申請(qǐng)日: 2018-03-20
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN108339580B
• 公開(kāi)（公告）日: 2020-01-14
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 陳華英;陳暢;朱永剛;于志航
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 哈爾濱工業(yè)大學(xué)深圳研究生院
• 主分類(lèi)號(hào): B01L3/00
• 分類(lèi)號(hào): B01L3/00
• 代理公司: 44205 廣州嘉權(quán)專(zhuān)利商標(biāo)事務(wù)所有限公司
• 代理人: 謝岳鵬

1.一種基于微流控芯片的流體剪切力生成裝置，其特征在于，包括裝置主體，所述裝置主體上設(shè)置有主流道與至少兩條分支流道，所述主流道的一端設(shè)置有流體入口，所述主流道的另一端設(shè)置有主流道流體出口，所述分支流道的一端與所述主流道連通，另一端設(shè)有分支流道流體出口，所述分支流道內(nèi)設(shè)有閥門(mén)，通過(guò)控制所述閥門(mén)的閉合程度以調(diào)節(jié)該分支流道內(nèi)可供流體通過(guò)的截面積。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的流體剪切力生成裝置，其特征在于，所述閥門(mén)包括構(gòu)成所述分支流道的流道壁的彈性膜片，以及向所述彈性膜片施加壓力以使其向流道內(nèi)部凹陷的加壓裝置。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的流體剪切力生成裝置，其特征在于，所述加壓裝置沿單側(cè)方向向所述彈性膜片施壓。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的流體剪切力生成裝置，其特征在于，所述加壓裝置沿所述分支流道的周向向所述彈性膜片施壓。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的流體剪切力生成裝置，其特征在于，所述閥門(mén)包括構(gòu)成所述分支流道的流道壁的具有磁性的彈性膜片，以及向所述彈性膜片施加磁場(chǎng)以吸引其向流道內(nèi)部凹陷的磁性裝置。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的流體剪切力生成裝置，其特征在于，所述閥門(mén)包括注入所述分支流道內(nèi)的磁珠，以及向所述磁珠施加磁場(chǎng)以使其在所述分支流道內(nèi)的流道壁上堆積的磁性裝置。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的流體剪切力生成裝置，其特征在于，所述分支流道包括位于所述閥門(mén)至所述分支流道與所述主流道連通處之間的入口區(qū)域，以及設(shè)于所述閥門(mén)至所述分支流道流體出口之間的剪切力調(diào)節(jié)區(qū)域。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的流體剪切力生成裝置，其特征在于，各所述閥門(mén)獨(dú)立調(diào)節(jié)，或者同步調(diào)節(jié)。

9.一種基于微流控芯片的流體剪切力生成方法，包括以下步驟，

S10設(shè)置具有流體入口與主流道流體出口的主流道，并設(shè)置與所述主流道連通的至少兩條分支流道，所述分支流道具有分支流道流體出口；

S20在各分支流道內(nèi)設(shè)置可調(diào)節(jié)該分支流道截面積的閥門(mén)；

S30通過(guò)所述流體入口向所述主流道內(nèi)注入流體，并通過(guò)調(diào)節(jié)各所述閥門(mén)的閉合程度，以調(diào)節(jié)各所述分支流道內(nèi)剪切力的大小與比值。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的流體剪切力生成方法，其特征在于，在各所述閥門(mén)調(diào)節(jié)完畢之后，調(diào)節(jié)所述主流道內(nèi)的流體流速，以在各所述分支流道內(nèi)的剪切力比值保持不變的情況下調(diào)節(jié)剪切力的大小。