[發(fā)明專(zhuān)利]一種輻射固化凹印油墨在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201810227961.4 | 申請(qǐng)日: | 2018-03-20 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN110305525A | 公開(kāi)(公告)日: | 2019-10-08 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 錢(qián)彬;楊金梁;嚴(yán)春霞 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 常州格林感光新材料有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | C09D11/101 | 分類(lèi)號(hào): | C09D11/101 |
| 代理公司: | 北京漢德知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11328 | 代理人: | 劉子文;徐馳 |
| 地址: | 213127 江蘇省*** | 國(guó)省代碼: | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 凹印油墨 脂環(huán)式環(huán)氧化合物 氧雜環(huán)丁烷 輻射固化 類(lèi)化合物 附著力 陽(yáng)離子聚合性化合物 陽(yáng)離子型光引發(fā)劑 陽(yáng)離子固化 印品 羥基 顏料 固化 | ||
1.一種輻射固化凹印油墨,包含下列組分:
(A)陽(yáng)離子聚合性化合物,包含含羥基的氧雜環(huán)丁烷類(lèi)化合物和脂環(huán)式環(huán)氧化合物;
(B)陽(yáng)離子型光引發(fā)劑;
(C)顏料;
(D)填料。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的輻射固化凹印油墨,其特征在于:所述含羥基的氧雜環(huán)丁烷類(lèi)化合物選自至少一個(gè)封端基團(tuán)是氧雜環(huán)丁烷基團(tuán)且含羥基的取代或未被取代的烷烴和烯烴,氧雜環(huán)丁烷端基上的H可任選地被C1-C4的烷基所取代。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的輻射固化凹印油墨,其特征在于:所述含羥基的氧雜環(huán)丁烷類(lèi)化合物是具有至少一個(gè)封端基團(tuán)的烷烴或烯烴,任選地,非封端基團(tuán)中的-CH2-可各自獨(dú)立地被-O-、-COO-、-OCO-、-SO2-、1,4-亞苯基或所取代,條件是兩個(gè)O不直接相連。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的輻射固化凹印油墨,其特征在于:所述脂環(huán)式環(huán)氧化合物是具有環(huán)氧環(huán)己基的環(huán)氧化合物。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的輻射固化凹印油墨,其特征在于:含羥基的氧雜環(huán)丁烷類(lèi)化合物和脂環(huán)式環(huán)氧化合物的質(zhì)量比為2-5:1,優(yōu)選2-4:1。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的輻射固化凹印油墨,其特征在于:組分(A)陽(yáng)離子聚合性化合物在輻射固化凹印油墨中的質(zhì)量比為40-90%,優(yōu)選45-80%。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的輻射固化凹印油墨,其特征在于:組分(B)陽(yáng)離子型光引發(fā)劑選自碘鎓鹽、硫鎓鹽、芳基茂鐵鹽中的一種或兩種以上的組合。
8.根據(jù)權(quán)利要求1或7所述的輻射固化凹印油墨,其特征在于:組分(B)陽(yáng)離子型光引發(fā)劑選自具有如下式(I)和/或(II)所示結(jié)構(gòu)的化合物:
其中,R1和R2各自獨(dú)立地代表氫、C1-C20的直鏈或支鏈烷基、C4-C20的環(huán)烷基烷基或烷基環(huán)烷基,且這些基團(tuán)中的非環(huán)-CH2-可任選地被-O-、-S-或1,4-亞苯基所取代;
R3和R4各自獨(dú)立地代表氫、C1-C20的直鏈或支鏈烷基、C4-C20的環(huán)烷基烷基或烷基環(huán)烷基、C6-C20的取代或未取代的芳基,且這些基團(tuán)中的非環(huán)-CH2-可任選地被-O-、-S-或1,4-亞苯基所取代;
R5代表C6-C20的取代或未取代芳基、C6-C20的取代或未取代的烷基芳基、C1-C20的直鏈或支鏈烷基、C4-C20的環(huán)烷基烷基或烷基環(huán)烷基、取代或未被取代的苯硫基苯基,且這些基團(tuán)中的非環(huán)-CH2-可任選地被羰基、-O-、-S-或1,4-亞苯基所取代;
R6和R7各自獨(dú)立地代表烷基、羥基、烷氧基、烷基羰基、芳基羰基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、芳硫基羰基、酰氧基、芳硫基、芳基、雜環(huán)烴基、芳氧基、烷基亞磺?;?、芳基亞磺?;?、烷基磺酰基、芳基磺?;?、羥基(聚)亞烷基氧基、可取代的氨基、氰基、硝基、或鹵原子,m1、m2分別表示R6和R7的個(gè)數(shù),表示0-4的整數(shù)。
X-各自獨(dú)立地代表M-、ClO4-、CN-、HSO4-、NO3-、CF3COO-、(BM4)-、(SbM6)-、(AsM6)-、(PM6)-、Al[OC(CF3)3]4-、磺酸根離子、B(C6M5)4-或[(Rf)bPF6-b]-,其中,M為鹵素,Rf表示≥80%的氫原子被氟原子取代的烷基,b表示1~5的整數(shù),且b個(gè)Rf基團(tuán)相同或互不相同。
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