[發(fā)明專利]基于兩個單脊光柵的5×5點陣衍射光柵有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201810226783.3 | 申請日： | 2018-03-19 |
| 公開（公告）號： | CN108680978B | 公開（公告）日： | 2020-12-04 |
| 發(fā)明（設計）人： | 周常河;魯云開;項長鋮 | 申請（專利權）人： | 中國科學院上海光學精密機械研究所 |
| 主分類號： | G02B5/18 | 分類號： | G02B5/18 |
| 代理公司： | 上海恒慧知識產(chǎn)權代理事務所(特殊普通合伙) 31317 | 代理人： | 張寧展 |
| 地址： | 201800 *** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 基于 兩個 光柵 點陣 衍射 | ||
【權利要求書】：
1.一種用于633納米波長的基于兩個單脊光柵的5×5點陣衍射光柵，其特征在于該光柵是由兩個一維單脊光柵上下排列一體構成，且上層光柵的光柵周期方向與下層光柵的光柵周期方向互相垂直，所述的光柵周期均為1.309微米，上層光柵占空比為0.576～0.611，刻蝕深度為1.008～1.072微米，下層光柵占空比為0.5，刻蝕深度為0.873～0.897微米。
2.根據(jù)權利要求1所述的基于兩個單脊光柵的5×5點陣衍射光柵，其特征在于所述的點陣衍射光柵的上層光柵占空比為0.591，刻蝕深度為1.056微米，下層光柵刻蝕深度為0.884微米。
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