[發明專利]陶瓷杯上釉生產線

在審

• 申請號: 201810223890.0
• 申請日: 2018-03-19
• 公開（公告）號: CN108437171A
• 公開（公告）日: 2018-08-24
• 發明（設計）人: 江培漢
• 申請（專利權）人: 江培漢
• 主分類號: B28B11/04
• 分類號: B28B11/04;B28B17/00
• 代理公司: 汕頭市南粵專利商標事務所(特殊普通合伙) 44301
• 代理人: 余飛峰

1.一種陶瓷杯上釉生產線，其特征在于：依次包括第一陶瓷杯傳送機構、陶瓷杯內壁自動上釉機構、第二陶瓷杯傳送機構、陶瓷杯外壁自動上釉機構；所述第一陶瓷杯傳送機構將底面朝上放置的陶瓷杯送到陶瓷杯內壁自動上釉機構，所述陶瓷杯內壁自動上釉機構對陶瓷杯內壁上釉后將陶瓷杯放到第二陶瓷杯傳送機構上，底面朝上放置的陶瓷杯被翻轉180度后杯口朝上放置在第二陶瓷杯傳送機構上，所述第二陶瓷杯傳送機構將杯口朝上的陶瓷杯送到陶瓷杯外壁自動上釉機構，所述陶瓷杯內壁自動上釉機構對陶瓷杯外壁上釉。

2.如權利要求1所述的陶瓷杯上釉生產線，其特征在于：所述陶瓷杯內壁自動上釉機構包括支撐架、第一升降支撐機構、內壁噴釉機構和至少一個陶瓷杯外壁底面吸取裝置，所述第一升降支撐機構包括第一升降裝置、第一可轉動架、第一可轉動架驅動機構，所述第一升降裝置、內壁噴釉機構分別安裝在支撐架上，所述第一可轉動架驅動機構安裝在第一升降裝置上，所述第一可轉動架可轉動地安裝在第一升降裝置上，所述第一可轉動架驅動機構與第一可轉動架連接，所述陶瓷杯外壁底面吸取裝置安裝在第一可轉動架上。

3.如權利要求2所述的陶瓷杯上釉生產線，其特征在于：所述內壁噴釉機構包括釉料收集槽和至少一個噴釉管，所述噴釉管與真空吸盤兩者數目相同并且一一對應，所述噴釉管安裝在釉料收集槽底面上。

4.如權利要求2所述的陶瓷杯上釉生產線，其特征在于：所述陶瓷杯內壁自動上釉機構還包括陶瓷杯開口擦拭機構，所述陶瓷杯開口擦拭機構為第一皮帶傳送機構。

5.如權利要求4所述的陶瓷杯上釉生產線，其特征在于：所述陶瓷杯外壁底面吸取裝置的數目為四個，并且四個陶瓷杯外壁底面吸取裝置沿著第一可轉動架的周向均勻分布；所述第一可轉動架具有四個工位，所述四個工位沿著第一可轉動架的周向按逆時針方向依次分布，這四個工位分別為吸杯工位、噴涂工位、擦拭工位、放杯工位，所述內壁噴釉機構位于噴涂工位下方，所述陶瓷杯開口擦拭機構位于擦拭工位下方。

6.如權利要求2-5中任意一項所述的陶瓷杯上釉生產線，其特征在于：所述陶瓷杯外壁自動上釉機構包括機架、升降支撐機構、浸釉槽和至少一個陶瓷杯內壁底面吸取裝置，所述升降支撐機構包括升降裝置、可轉動架、可轉動架驅動機構，所述升降裝置、浸釉槽分別安裝在機架上，所述可轉動架驅動機構安裝在升降裝置上，所述可轉動架可轉動地安裝在升降裝置上，所述可轉動架驅動機構與可轉動架連接，所述陶瓷杯內壁底面吸取裝置安裝在可轉動架上。

7.如權利要求6所述的陶瓷杯上釉生產線，其特征在于：所述陶瓷杯外壁自動上釉機構還包括陶瓷杯外壁底面擦拭機構，所述陶瓷杯外壁底面擦拭機構為皮帶傳送機構。

8.如權利要求7所述的陶瓷杯上釉生產線，其特征在于：所述陶瓷杯內壁底面吸取裝置的數目為四個，并且四個陶瓷杯內壁底面吸取裝置沿著可轉動架的周向均勻分布；所述可轉動架具有四個工位，所述四個工位沿著可轉動架的周向按逆時針方向依次分布，這四個工位分別為吸杯工位、浸泡工位、擦拭工位、放杯工位，所述浸釉槽位于浸泡工位下方，所述陶瓷杯外壁底面擦拭機構位于擦拭工位下方。

9.如權利要求6所述的陶瓷杯上釉生產線，其特征在于：所述陶瓷杯內壁底面吸取裝置和陶瓷杯外壁底面吸取裝置均采用陶瓷杯吸取單元，所述陶瓷杯吸取單元包括安裝在對應可轉動架上的定位機構和至少一個真空吸盤，所述真空吸盤安裝在定位機構上。

10.如權利要求9所述的陶瓷杯上釉生產線，其特征在于：所述定位機構包括擺動機構、真空吸盤轉動機構，所述擺動機構包括擺動架、擺動架驅動機構，所述擺動架中部可轉動地安裝在升降支撐機構上，所述擺動架驅動機構安裝在升降支撐機構上，并且擺動架驅動機構連接擺動架頂端，所述真空吸盤可轉動地安裝在擺動架上，所述真空吸盤轉動機構安裝在擺動架上，并且真空吸盤轉動機構與真空吸盤連接。