[發(fā)明專(zhuān)利]用于去除表面上的殘余物的清洗調(diào)配物有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201810223834.7 | 申請(qǐng)日: | 2014-12-03 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN108485840B | 公開(kāi)(公告)日: | 2020-12-29 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 高橋智威;杜冰;W·A·沃伊特恰克;T·多瑞;E·A·克內(nèi)爾 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 富士膠片電子材料美國(guó)有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | C11D7/26 | 分類(lèi)號(hào): | C11D7/26;C11D7/32;C11D7/50;C11D7/60 |
| 代理公司: | 北京博思佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11415 | 代理人: | 林祥 |
| 地址: | 美國(guó)羅*** | 國(guó)省代碼: | 暫無(wú)信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 用于 去除 表面上 殘余物 清洗 調(diào)配 | ||
1.一種無(wú)腐蝕性的用于去除半導(dǎo)體基板上的殘余物的清潔組合物,所述清潔組合物由以下組成:
1)所述組合物按重量計(jì)的0.5%至20%的量的羥基胺;
2)所述組合物按重量計(jì)的0.01%至1%的量的至少一種第一螯合劑,所述第一螯合劑是多氨基多羧酸;
3)所述組合物按重量計(jì)的0.05%至1%的量的至少一種金屬腐蝕抑制劑,所述金屬腐蝕抑制劑為經(jīng)取代或未經(jīng)取代的苯并三唑;
4)至少一種有機(jī)溶劑,所述有機(jī)溶劑選自由水溶性醇、水溶性酮、水溶性酯和水溶性醚組成的組,所述至少一種有機(jī)溶劑的量為所述組合物按重量計(jì)的1%至30%;
5)水;和
6)任選地,至少一種pH調(diào)節(jié)劑,所述pH調(diào)節(jié)劑是不含金屬離子的堿;
其中,所述組合物的pH為6至9.5。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的組合物,其特征在于,所述組合物的pH為6.5至9.5。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的組合物,其特征在于,所述羥基胺為所述組合物按重量計(jì)的3%至10%。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的組合物,其特征在于,所述多氨基多羧酸選自由以下組成的組:?jiǎn)?或聚亞烷基聚胺聚羧酸、聚氨基烷烴聚羧酸、聚氨基烷醇聚羧酸和羥基烷基醚聚胺聚羧酸。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的組合物,其特征在于,所述多氨基多羧酸為二乙三胺五乙酸。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的組合物,其特征在于,所述多氨基多羧酸為所述組合物按重量計(jì)的0.3%至0.7%。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的組合物,其特征在于,所述至少一種金屬腐蝕抑制劑包含任選地被至少一種取代基取代的苯并三唑,所述取代基選自由以下組成的組:烷基基團(tuán)、芳基基團(tuán)、鹵素基團(tuán)、氨基基團(tuán)、硝基基團(tuán)、烷氧基基團(tuán)和羥基基團(tuán)。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的組合物,其特征在于,所述至少一種金屬腐蝕抑制劑包含5-甲基苯并三唑。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的組合物,其特征在于,所述至少一種金屬腐蝕抑制劑為所述組合物按重量計(jì)的0.1%至0.5%。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的組合物,其特征在于,所述至少一種有機(jī)溶劑包含乙二醇丁醚。
11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的組合物,其特征在于,所述至少一種有機(jī)溶劑為所述組合物按重量計(jì)的1%至15%。
12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的組合物,所述組合物還包含至少一種pH調(diào)節(jié)劑,所述pH調(diào)節(jié)劑是不含金屬離子的堿。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的組合物,其特征在于,所述至少一種pH調(diào)節(jié)劑包含1,8-二氮雜二環(huán)[5.4.0]-7-十一烯。
14.根據(jù)權(quán)利要求12所述的組合物,其特征在于,所述至少一種pH調(diào)節(jié)劑為所述組合物按重量計(jì)的0.1%至3%。
15.根據(jù)權(quán)利要求1所述的組合物,其特征在于,所述組合物由羥基胺、二乙三胺五乙酸、5-甲基苯并三唑、1,8-二氮雜二環(huán)[5.4.0]-7-十一烯、乙二醇丁醚和水組成。
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