[發明專利]一種抗指紋化合物及其制備方法和應用

有效

• 申請號: 201810220802.1
• 申請日: 2018-03-16
• 公開（公告）號: CN108440593B
• 公開（公告）日: 2020-04-14
• 發明（設計）人: 方福全;周濟蒼;南軍義;謝亮
• 申請（專利權）人: 深圳怡鈦積科技股份有限公司
• 主分類號: C07F7/18
• 分類號: C07F7/18;C09D5/16;C09D183/04
• 代理公司: 廣州三環專利商標代理有限公司 44202
• 代理人: 郝傳鑫;熊永強

1.一種抗指紋化合物，其特征在于，所述抗指紋化合物的化學結構式如式(Ⅰ)所示：

其中，R¹為H或C₆～C₁₀的芳香基；R²為甲基、乙基、丙基或異丙基。

2.一種抗指紋化合物的制備方法，其特征在于，包括：

(1)提供化合物B，B：其中，X為Br或I；

在保護氣體氣氛下，將所述化合物B與烯烴溶于第一有機溶劑，加入引發劑，在50～150℃下攪拌反應1～30h，將所得反應液純化后得到化合物C，

C：其中，R¹為H或C₆～C₁₀的芳香基；X為Br或I；

(2)將所述化合物C和路易斯堿在第二有機溶劑中，于-10～150℃下攪拌反應1～30h，將所得反應液純化后得到化合物D，

D：其中，R¹為H或C₆～C₁₀的芳香基；

(3)提供如式(Ⅱ)所示的三烷氧基硅烷：其中，R²為甲基、乙基、丙基或異丙基；

在保護氣體氣氛下，將所述化合物D與所述三烷氧基硅烷在第三有機溶劑中，在硅氫加成反應催化劑存在下，于0～150℃下攪拌反應1～30h，將所得反應液純化后得到如式(Ⅰ)所示的抗指紋化合物，

其中，R¹為H或C₆～C₁₀的芳香基；R²為甲基、乙基、丙基或異丙基。

3.如權利要求2所述的制備方法，其特征在于，步驟(1)中，所述化合物B、烯烴與引發劑的摩爾比為1：(1.5～25)：(0.01～2.0)；

步驟(2)中，所述化合物C與路易斯堿的摩爾比為1：(1.5～5.0)；

步驟(3)中，所述化合物D、三烷氧基硅烷和所述硅氫加成反應催化劑的摩爾比為1：(1.5～25)：(0.001～0.10)。

4.如權利要求2所述的制備方法，其特征在于，步驟(1)中，所述引發劑為連二亞硫酸鈉、過氧化苯甲酰、偶氮二異丁腈、雙氧水、亞硫酸氫鈉、雕白粉和過氧醇化合物中的一種或多種。

5.如權利要求2所述的制備方法，其特征在于，步驟(2)中，所述路易斯堿為堿土金屬化合物、堿金屬化合物、過渡金屬氧化物和有機堿中的至少一種。

6.如權利要求2所述的制備方法，其特征在于，所述第一有機溶劑為醚類溶劑、腈類溶劑、酰胺類溶劑、砜類溶劑、酯類溶劑、醇類溶劑和烴類溶劑中的一種或多種；所述第二有機溶劑包括烴類溶劑、醚類溶劑、腈類溶劑、酰胺類溶劑和砜類溶劑中的一種或多種；所述第三有機溶劑包括醚類溶劑、腈類溶劑、酰胺類溶劑、砜類溶劑、酯類溶劑和烴類溶劑中的一種或多種。

7.一種抗指紋劑，其特征在于，包括抗指紋化合物和有機溶劑，所述抗指紋化合物的化學結構式如式(Ⅰ)所示：

其中，R¹為H或C₆～C₁₀的芳香基；R²為甲基、乙基、丙基或異丙基。

8.如權利要求7所述的抗指紋劑，其特征在于，所述抗指紋劑中，所述抗指紋化合物的質量占比為0.1％-30％。

9.如權利要求7所述的抗指紋劑，其特征在于，所述有機溶劑包括烴類溶劑、醚類溶劑和酯類溶劑中的一種或多種。

10.一種具有抗指紋涂層的制件，其特征在于，包括制件基體以及形成在所述制件基體表面上的抗指紋涂層，其中，所述抗指紋涂層由如權利要求7-9任一項所述的抗指紋劑涂覆形成。