[發(fā)明專利]在線加熱實(shí)現(xiàn)玻璃Be2Ti3薄膜p-n型轉(zhuǎn)變的方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201810217583.1 | 申請(qǐng)日: | 2018-03-16 |
| 公開(公告)號(hào): | CN108486530A | 公開(公告)日: | 2018-09-04 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 龍劍平;姚富友;劉春海;胡安俊;侯志前;陳青松;張思豪;梁鵬;嚴(yán)邦業(yè);劉博 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 成都理工大學(xué) |
| 主分類號(hào): | C23C14/06 | 分類號(hào): | C23C14/06;C23C14/18;C23C14/35 |
| 代理公司: | 成都行之專利代理事務(wù)所(普通合伙) 51220 | 代理人: | 廖慧敏 |
| 地址: | 610000 *** | 國(guó)省代碼: | 四川;51 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說(shuō)明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 在線加熱 薄膜 硅玻璃 玻璃 鍍膜 預(yù)處理 磁控濺射技術(shù) 晶粒 磁控濺射 干燥處理 加熱模塊 真空條件 基片臺(tái) 去應(yīng)力 基板 濺射 生長(zhǎng) | ||
1.在線加熱實(shí)現(xiàn)玻璃Be2Ti3薄膜p-n型轉(zhuǎn)變的方法,其特征在于:包括以下操作步驟,首先硅玻璃基片進(jìn)行預(yù)處理,經(jīng)干燥處理后,將硅玻璃基片置于磁控濺射基片臺(tái),進(jìn)行濺射處理,即實(shí)現(xiàn)將玻璃Be2Ti3薄膜p-n型轉(zhuǎn)變。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的在線加熱實(shí)現(xiàn)玻璃Be2Ti3薄膜p-n型轉(zhuǎn)變的方法,其特征在于:所述硅玻璃基片在磁控濺射基片臺(tái)濺射處理工藝為:首先預(yù)濺射5—10min,將基片的表面進(jìn)行清洗,去除表面附著物,便于Be2Ti3薄膜的沉積;然后開始濺射,采用在線加熱,真空保溫去應(yīng)力,濺射靶材與基片表面之間的距離為5cm,基臺(tái)轉(zhuǎn)速為25r·min,功率為40w,氣壓為0.4pa,在線加熱升溫速率的方式為階段梯度式升溫。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的在線加熱實(shí)現(xiàn)玻璃Be2Ti3薄膜p-n型轉(zhuǎn)變的方法,其特征在于:濺射操作中采用的靶材為純度99.99%Be2Ti3合金靶材。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的在線加熱實(shí)現(xiàn)玻璃Be2Ti3薄膜p-n型轉(zhuǎn)變的方法,其特征在于:濺射操作中采用的靶材規(guī)格為50.8*4mm。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的在線加熱實(shí)現(xiàn)玻璃Be2Ti3薄膜p-n型轉(zhuǎn)變的方法,其特征在于:玻璃基片進(jìn)行預(yù)處理的操作方法為,對(duì)玻璃基片進(jìn)行清洗,然后在丙酮中進(jìn)行超聲,超聲10—15min,然后將玻璃基片放入無(wú)水乙醇中進(jìn)行再次超聲,超聲時(shí)間為10—20min,然后將玻璃基片進(jìn)行干燥處理。
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過(guò)覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





