[發(fā)明專利]像素界定層的制作方法、顯示基板及制作方法、顯示裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201810217501.3 | 申請(qǐng)日: | 2018-03-16 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN108428719B | 公開(kāi)(公告)日: | 2020-12-22 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 王欣欣;廖金龍;胡月;宋麗芳 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 京東方科技集團(tuán)股份有限公司;合肥鑫晟光電科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L27/32 | 分類號(hào): | H01L27/32;H01L51/56;H01L51/00 |
| 代理公司: | 北京銀龍知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11243 | 代理人: | 黃燦;張博 |
| 地址: | 100015 *** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 像素 界定 制作方法 顯示 顯示裝置 | ||
本發(fā)明提供了一種像素界定層的制作方法、顯示基板及制作方法、顯示裝置,屬于顯示技術(shù)領(lǐng)域。其中,像素界定層的制作方法包括:在用以制備像素界定層的有機(jī)材料溶液中加入納米顆粒,所述納米顆粒的表面能大于制備所述像素界定層的有機(jī)材料的表面能;將添加有所述納米顆粒的有機(jī)材料溶液涂布在基板上,進(jìn)行干燥處理后形成像素界定層薄膜,所述納米顆粒位于所述像素界定層薄膜的底部;對(duì)所述像素界定層薄膜進(jìn)行光刻工藝形成像素界定層的圖形。通過(guò)本發(fā)明的技術(shù)方案能夠使得像素區(qū)域形成厚度均勻的膜層,保證發(fā)光層的出光效果,提升顯示裝置的顯示品質(zhì)。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域,特別是指一種像素界定層的制作方法、顯示基板及制作方法、顯示裝置。
背景技術(shù)
OLED(Organic Light-Emitting Diode,有機(jī)發(fā)光二極管)屬于電激發(fā)光器件,具有自發(fā)光、高發(fā)光效率、低工作電壓、輕薄、可柔性化以及制程工藝簡(jiǎn)單等特點(diǎn),在顯示照明等領(lǐng)域應(yīng)用廣泛。
目前,OLED的成膜方式有兩種,一種是蒸鍍制程,這種最適合小尺寸OLED的生產(chǎn),且目前已經(jīng)量產(chǎn);另一種是溶液制程,這種方法主要是利用已經(jīng)配置好的有機(jī)材料溶液進(jìn)行旋涂、噴墨打印或絲網(wǎng)印刷等方式成膜,這種方式具有成本低、產(chǎn)能高、適用于大尺寸面板等優(yōu)點(diǎn),被國(guó)內(nèi)外廣泛研究。其中,噴墨打印技術(shù),由于較高的材料利用率,可作為大尺寸OLED的量產(chǎn)方式。
目前噴墨打印工藝中是采用表面能較小的材料作為像素界定層,像素界定層的表面能較小從而具有疏液的特性,可以將噴墨打印的墨滴限制在像素區(qū)域,但由于像素界定層的疏液性會(huì)使墨滴在干燥過(guò)程中形成中間厚、兩邊薄的拱形不均勻膜,這會(huì)影響發(fā)光層的出光效果,從而影響顯示器件的壽命。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明要解決的技術(shù)問(wèn)題是提供一種像素界定層的制作方法、顯示基板及制作方法、顯示裝置,能夠使得像素區(qū)域形成厚度均勻的膜層,保證發(fā)光層的出光效果,提升顯示裝置的顯示品質(zhì)。
為解決上述技術(shù)問(wèn)題,本發(fā)明的實(shí)施例提供技術(shù)方案如下:
一方面,提供一種像素界定層的制作方法,包括:
在用以制備像素界定層的有機(jī)材料溶液中加入納米顆粒,所述納米顆粒的表面能大于制備所述像素界定層的有機(jī)材料的表面能;
將添加有所述納米顆粒的有機(jī)材料溶液涂布在基板上,進(jìn)行干燥處理后形成像素界定層薄膜,所述納米顆粒位于所述像素界定層薄膜的底部;
對(duì)所述像素界定層薄膜進(jìn)行光刻工藝形成像素界定層的圖形。
進(jìn)一步地,所述像素界定層在垂直于自身延伸方向上的截面為正梯形。
進(jìn)一步地,所述納米顆粒呈球狀。
進(jìn)一步地,所述納米顆粒的直徑為20nm-100nm。
進(jìn)一步地,所述有機(jī)材料溶液的溶質(zhì)為含氟材料,溶劑為聚酰亞胺,所述納米顆粒為羥基化合物。
進(jìn)一步地,所述進(jìn)行干燥處理后形成像素界定層薄膜包括:
通過(guò)抽真空去除有機(jī)材料溶液的部分溶劑;
在90-110℃的溫度下對(duì)有機(jī)材料溶液進(jìn)行烘烤以形成所述像素界定層薄膜。
進(jìn)一步地,所述像素界定層的圖形中,包含有納米顆粒的像素界定層的高度為像素界定層整體高度的1/2-2/3。
本發(fā)明實(shí)施例還提供了一種顯示基板的制作方法,采用如上所述的制作方法在基板上制作像素界定層。
本發(fā)明實(shí)施例還提供了一種顯示基板,采用如上所述的制作方法制作得到。
本發(fā)明實(shí)施例還提供了一種顯示裝置,包括如上所述的顯示基板。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個(gè)共用襯底內(nèi)或其上形成的多個(gè)半導(dǎo)體或其他固態(tài)組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無(wú)源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門(mén)適用于整流、振蕩、放大或切換的半導(dǎo)體組件并且至少有一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的;包括至少有一個(gè)躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的無(wú)源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對(duì)紅外輻射、光、較短波長(zhǎng)的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門(mén)適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或適用于通過(guò)這樣的輻射控制電能的半導(dǎo)體組件的
H01L27-15 .包括專門(mén)適用于光發(fā)射并且包括至少有一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的半導(dǎo)體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結(jié)點(diǎn)的熱電元件的;包括有熱磁組件的





