[發明專利]光學補償膜以及顯示裝置有效
| 申請號: | 201810215697.2 | 申請日: | 2018-03-15 |
| 公開(公告)號: | CN108563075B | 公開(公告)日: | 2021-08-27 |
| 發明(設計)人: | 顏莎寧;左雄燦;馮遠明 | 申請(專利權)人: | 京東方科技集團股份有限公司;成都京東方光電科技有限公司 |
| 主分類號: | G02F1/13363 | 分類號: | G02F1/13363;G02B5/30 |
| 代理公司: | 北京清亦華知識產權代理事務所(普通合伙) 11201 | 代理人: | 趙天月 |
| 地址: | 100015 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 光學 補償 以及 顯示裝置 | ||
1.一種光學補償膜,其特征在于,包括:
Z型補償膜;
第一補償膜,所述第一補償膜設置在所述Z型補償膜上;
其中,
所述Z型補償膜的面內光程差補償值RoZ的范圍為:120nm≤RoZ≤500nm;
所述Z型補償膜的厚度方向上光程差補償值RthZ為:RthZ=0nm。
2.根據權利要求1所述的補償膜,其特征在于,所述第一補償膜包括+A型補償膜、–B型補償膜、+B型補償膜、+C型補償膜以及-C型補償膜的至少之一。
3.根據權利要求1所述的補償膜,其特征在于,所述第一補償膜為+A型補償膜,其中,所述Z型補償膜的面內光程差補償值RoZ的范圍為:RoZ=240±50nm;所述+A型補償膜的面內光程差補償值Ro+A的范圍為:Ro+A=90±20nm,所述+A型補償膜的厚度方向上光程差補償值Rth+A的范圍為:Rth+A=180±35nm。
4.根據權利要求1所述的補償膜,其特征在于,所述第一補償膜為–B型補償膜,其中,所述Z型補償膜的面內光程差補償值RoZ的范圍為:RoZ=150±30nm;所述–B型補償膜的面內光程差補償值Ro–B的范圍為:Ro–B=30±5nm,所述–B型補償膜的厚度方向上光程差補償值Rth–B的范圍為:Rth–B=190±40nm。
5.根據權利要求1所述的補償膜,其特征在于,所述第一補償膜為+B型補償膜,其中,所述Z型補償膜的面內光程差補償值RoZ的范圍為:RoZ=240±50nm;所述+B型補償膜的面內光程差補償值Ro+B的范圍為:Ro+B=40±10nm,所述+B型補償膜的厚度方向上光程差補償值Rth+B的范圍為:Rth+B=-50±10nm。
6.根據權利要求1所述的補償膜,其特征在于,所述第一補償膜為+C型補償膜,其中,所述Z型補償膜的面內光程差補償值RoZ的范圍為:RoZ=425±85nm;所述+C型補償膜的面內光程差補償值Ro+C的范圍為:Ro+C=0nm,所述+C型補償膜的厚度方向上光程差補償值Rth+C的范圍為:Rth+C=-42±10nm。
7.根據權利要求1所述的補償膜,其特征在于,所述第一補償膜為-C型補償膜,其中,所述Z型補償膜的面內光程差補償值RoZ的范圍為:RoZ=285±55nm;所述-C型補償膜的面內光程差補償值Ro-C的范圍為:Ro-C=0nm,所述-C型補償膜的厚度方向上光程差補償值Rth-C的范圍為:Rth-C=48±10nm。
8.一種顯示裝置,其特征在于,包括:
對盒設置的第一基板以及第二基板;
液晶層,所述液晶層填充在所述第一基板與所述第二基板之間;
權利要求1~7任一項所述的光學補償膜,所述光學補償膜設置在所述第一基板與所述液晶層之間或者所述第二基板與所述液晶層之間。
9.根據權利要求8所述的顯示裝置,其特征在于,所述液晶層被設置為在水平電場的驅動下進行偏轉。
10.根據權利要求8所述的顯示裝置,其特征在于,所述液晶層的液晶光程差Δnd的范圍為:330nm≤Δnd≤400nm,所述液晶層的液晶預傾角θ的范圍為:θ≤1度。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于京東方科技集團股份有限公司;成都京東方光電科技有限公司,未經京東方科技集團股份有限公司;成都京東方光電科技有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201810215697.2/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:一種具有限位組件的階梯狀背光模組
- 下一篇:電子設備及其制造方法





