[發明專利]晶片脫附的方法、裝置及半導體處理設備有效
| 申請號: | 201810214819.6 | 申請日: | 2018-03-15 |
| 公開(公告)號: | CN110277328B | 公開(公告)日: | 2021-08-13 |
| 發明(設計)人: | 李靖 | 申請(專利權)人: | 北京北方華創微電子裝備有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/67 | 分類號: | H01L21/67;H01L21/683 |
| 代理公司: | 北京天昊聯合知識產權代理有限公司 11112 | 代理人: | 彭瑞欣;姜春咸 |
| 地址: | 100176 北*** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 晶片 方法 裝置 半導體 處理 設備 | ||
1.一種晶片脫附的方法,其特征在于,包括:
步驟S110、伺服控制器獲取預設安全扭矩值;
步驟S120、所述伺服控制器控制伺服電機驅動頂針機構運動,以對晶片進行脫附,并獲取所述伺服電機驅動過程中的最大扭矩值;
步驟S130、所述伺服控制器判斷所述最大扭矩值是否大于所述預設安全扭矩值,是則執行步驟S140,否則無粘片產生,完成晶片脫附;
步驟S140、所述伺服控制器控制所述伺服電機抱閘;
執行所述步驟S140之后繼續執行下述步驟:
步驟S150、所述伺服控制器獲取所述伺服電機抱閘瞬間的扭矩值;
步驟S160、基于所述伺服電機抱閘瞬間的扭矩值,確定對靜電卡盤加載反向電壓的加載時間T;
步驟S170、向所述靜電卡盤加載T時間的反向電壓后轉至所述步驟S120。
2.根據權利要求1所述的晶片脫附的方法,其特征在于,所述步驟S160中,確定所述加載時間T的方法包括:
步驟S161、獲取N個測試晶片,對N個所述測試晶片依次編號為1、2、3…N,其中,N為大于或等于1的正整數;
步驟S162、分別獲取N個所述測試晶片的加載正向電壓的時間以及在所述伺服電機驅動過程中的最大測試扭矩值;
步驟S163、根據每個所述測試晶片的加載正向電壓的時間以及所述最大測試扭矩值生成測試集合A,并基于所述測試集合A,確定加載反向電壓的加載時間T。
3.根據權利要求2所述的晶片脫附的方法,其特征在于,所述步驟S162中,對每個所述測試晶片均進行下述步驟:
將當前測試晶片M放置到所述靜電卡盤的表面,并對所述靜電卡盤加載TM時間的正向電壓,其中,1≤M≤N;
所述伺服電機驅動所述頂針機構運動,以脫附所述靜電卡盤上的所述當前測試晶片M,所述伺服控制器獲取所述伺服電機驅動過程中的所述當前測試晶片M對應的最大測試扭矩值WM。
4.根據權利要求3所述的晶片脫附的方法,其特征在于,所述步驟S163具體為:
根據所述測試集合A,其中,A={(T1,W1),(T2,W2)…(TN,WN)},基于最小二乘法進行曲線擬合,生成最大測試扭矩值與加載正向電壓的時間的關系曲線,得到最大測試扭矩值與加載正向電壓的時間的函數關系式;
基于所述最大扭矩值和所述函數關系式,確定加載反向電壓的加載時間T。
5.根據權利要求3所述的晶片脫附的方法,其特征在于,所述步驟S163具體為:
根據所述測試集合A,其中,A={(T1,W1),(T2,W2)…(TN,WN)},基于最小二乘法進行曲線擬合,生成最大測試扭矩值與加載正向電壓的時間的關系曲線,得到最大測試扭矩值與加載正向電壓的時間的函數關系式;
將所述最大扭矩值與預設安全扭矩值的預定部分作差處理,獲得負載扭矩值,將所述負載扭矩值代入所述函數關系式中,確定加載反向電壓的加載時間。
6.根據權利要求5所述的晶片脫附的方法,其特征在于,所述預設安全扭矩值的預定部分為所述預設安全扭矩值的一半。
7.根據權利要求2至6中任意一項所述的晶片脫附的方法,其特征在于,所述測試晶片的加載正向電壓的時間小于或等于5s。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于北京北方華創微電子裝備有限公司,未經北京北方華創微電子裝備有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201810214819.6/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:一種在線式石墨舟中硅片的檢測系統及檢測方法
- 下一篇:襯底處理裝置
- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





