[發(fā)明專(zhuān)利]一種基板母板及其檢測(cè)方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201810211701.8 | 申請(qǐng)日: | 2018-03-14 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN108362712B | 公開(kāi)(公告)日: | 2022-09-30 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 李圭鉉;任茂;問(wèn)武鵬;劉超強(qiáng);韓金桂 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 京東方科技集團(tuán)股份有限公司;重慶京東方光電科技有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | G01N21/956 | 分類(lèi)號(hào): | G01N21/956 |
| 代理公司: | 北京中博世達(dá)專(zhuān)利商標(biāo)代理有限公司 11274 | 代理人: | 賈瑩 |
| 地址: | 100015 *** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 母板 及其 檢測(cè) 方法 | ||
本申請(qǐng)實(shí)施例提供一種基板母板及其檢測(cè)方法,涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域,用于解決在圖案缺陷檢測(cè)過(guò)程中,缺陷檢出精度較低的問(wèn)題。該檢測(cè)方法包括:在基板母板上劃分多個(gè)檢測(cè)區(qū);在每個(gè)檢測(cè)區(qū)內(nèi),對(duì)待測(cè)面板中的圖案進(jìn)行缺陷檢測(cè),包括:對(duì)一檢測(cè)區(qū)對(duì)應(yīng)位置處的基板母板進(jìn)行拍照,獲取每個(gè)待測(cè)面板在該檢測(cè)區(qū)內(nèi)的檢測(cè)圖像以及檢測(cè)區(qū)內(nèi),設(shè)置于每個(gè)待測(cè)面板周邊的對(duì)位標(biāo)的實(shí)際位置;根據(jù)對(duì)位標(biāo)的實(shí)際位置獲取該檢測(cè)區(qū)內(nèi),每個(gè)檢測(cè)圖像的各個(gè)像素的位置;在同一檢測(cè)區(qū)中,對(duì)不同待測(cè)面板的檢測(cè)圖像進(jìn)行比對(duì),獲取缺陷的圖案。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種基板母板及其檢測(cè)方法。
背景技術(shù)
隨著顯示技術(shù)的飛速發(fā)展,觸控顯示屏(Touch Screen Panel)已經(jīng)逐漸遍及人們的生活中。目前可以采用外嵌式(On-Cell)制作方法將觸控屏集成于顯示屏的顯示側(cè)。
目前,為了提高產(chǎn)品質(zhì)量可以采用微觀檢查機(jī)(Automatic Optic Inspection)對(duì)觸控屏中觸控電極和觸控引線的圖案進(jìn)行缺陷檢測(cè)。其中,觸控電極的圖案根據(jù)設(shè)計(jì)的要求,會(huì)呈現(xiàn)非周期性排布。在此情況下,為了提高缺陷的檢測(cè)精度,通常需要對(duì)位于同一個(gè)母板上的相鄰兩個(gè)面板上的觸控圖案進(jìn)行比對(duì)。這樣一來(lái)對(duì)面板的定位的精度要求較高。然而,現(xiàn)有技術(shù)中,如圖1所示,是通過(guò)對(duì)位于母板四個(gè)角位置的對(duì)位標(biāo)(Mark)進(jìn)行定位,來(lái)實(shí)現(xiàn)對(duì)每個(gè)面板位置的確定。在此情況下,母板實(shí)際的擺放位置與理論擺放位置具有一定的偏差,因此面板的定位精度較低,不利于上述缺陷的檢出。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的實(shí)施例提供一種基板母板及其檢測(cè)方法,用于解決在圖案缺陷檢測(cè)過(guò)程中,通過(guò)位于母板四個(gè)角的對(duì)位標(biāo)進(jìn)行對(duì)位導(dǎo)致缺陷檢出精度較低的問(wèn)題。
為達(dá)到上述目的,本發(fā)明的實(shí)施例采用如下技術(shù)方案:
本申請(qǐng)實(shí)施例的一方面,提供一種基板母板的檢測(cè)方法,所述檢測(cè)方法包括:在所述基板母板上劃分多個(gè)檢測(cè)區(qū),一所述檢測(cè)區(qū)與所述基板母板上位于同一列的所述待測(cè)面板中的每一個(gè)所述待測(cè)面板的至少一部分相對(duì)應(yīng);在每個(gè)所述檢測(cè)區(qū)內(nèi),對(duì)所述待測(cè)面板中的圖案進(jìn)行缺陷檢測(cè);所述在每個(gè)檢測(cè)區(qū)內(nèi),對(duì)待測(cè)面板中的圖案進(jìn)行缺陷檢測(cè),包括:對(duì)一所述檢測(cè)區(qū)對(duì)應(yīng)位置處的基板母板進(jìn)行拍照,獲取每個(gè)所述待測(cè)面板在該檢測(cè)區(qū)內(nèi)的檢測(cè)圖像以及所述檢測(cè)區(qū)內(nèi),設(shè)置于每個(gè)所述待測(cè)面板周邊的對(duì)位標(biāo)的實(shí)際位置;所述對(duì)位標(biāo)被配置為對(duì)所述待測(cè)面板進(jìn)行定位;根據(jù)所述對(duì)位標(biāo)的實(shí)際位置獲取該檢測(cè)區(qū)內(nèi),每個(gè)所述檢測(cè)圖像的各個(gè)像素的位置;在同一所述檢測(cè)區(qū)中,對(duì)不同待測(cè)面板的檢測(cè)圖像進(jìn)行比對(duì),獲取缺陷的圖案。
可選的,獲取所述檢測(cè)區(qū)內(nèi)每個(gè)所述待測(cè)面板的對(duì)位標(biāo)的實(shí)際位置之前,所述檢測(cè)方法還包括:獲取每個(gè)所述待測(cè)面板在所述基板母板上的預(yù)設(shè)排布位置以及每個(gè)所述待測(cè)面板的對(duì)位標(biāo)的預(yù)設(shè)位置;在獲取所述檢測(cè)區(qū)內(nèi)每個(gè)所述待測(cè)面板的對(duì)位標(biāo)的實(shí)際位置之后,在獲取該檢測(cè)區(qū)內(nèi),每個(gè)所述待測(cè)面板在該檢測(cè)區(qū)內(nèi)的檢測(cè)圖像中各個(gè)像素的位置之前,所述方法還包括:根據(jù)所述待測(cè)面板的預(yù)設(shè)排布位置以及所述對(duì)位標(biāo)的預(yù)設(shè)位置和實(shí)際位置,對(duì)所述檢測(cè)區(qū)內(nèi)每個(gè)所述待測(cè)面板進(jìn)行坐標(biāo)補(bǔ)正。
進(jìn)一步可選的,獲取所述檢測(cè)區(qū)內(nèi)每個(gè)所述待測(cè)面板的對(duì)位標(biāo)的實(shí)際位置之前,所述方法還包括:獲取所述對(duì)位標(biāo)的預(yù)設(shè)形狀;獲取所述檢測(cè)區(qū)內(nèi)每個(gè)所述待測(cè)面板的對(duì)位標(biāo)的實(shí)際位置包括:根據(jù)所述待測(cè)面板的預(yù)設(shè)排布位置、所述對(duì)位標(biāo)的預(yù)設(shè)位置以及預(yù)設(shè)形狀,確定每個(gè)所述待測(cè)面板的檢測(cè)圖像中所述對(duì)位標(biāo)的圖案。
或者,進(jìn)一步可選的,獲取所述檢測(cè)區(qū)內(nèi)每個(gè)所述待測(cè)面板的實(shí)際位置之前,所述方法還包括:獲取所述對(duì)位標(biāo)的預(yù)設(shè)尺寸;獲取所述檢測(cè)區(qū)內(nèi)每個(gè)所述待測(cè)面板的對(duì)位標(biāo)的實(shí)際位置包括:根據(jù)所述待測(cè)面板的預(yù)設(shè)排布位置、所述對(duì)位標(biāo)的預(yù)設(shè)位置以及預(yù)設(shè)尺寸,確定每個(gè)所述待測(cè)面板的檢測(cè)圖像中所述對(duì)位標(biāo)的圖案。
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G01N 借助于測(cè)定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來(lái)測(cè)試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見(jiàn)光或紫外光來(lái)測(cè)試或分析材料
G01N21-01 .便于進(jìn)行光學(xué)測(cè)試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測(cè)試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測(cè)試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長(zhǎng)發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測(cè)試反應(yīng)的進(jìn)行或結(jié)果
G01N21-84 .專(zhuān)用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)
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