[發明專利]微粒制造裝置以及微粒制造方法

有效

• 申請號: 201810211540.2
• 申請日: 2018-03-14
• 公開（公告）號: CN108722325B
• 公開（公告）日: 2021-11-19
• 發明（設計）人: 田邊正明;永井久雄;小巖崎剛;大熊崇文
• 申請（專利權）人: 松下知識產權經營株式會社
• 主分類號: B01J19/08
• 分類號: B01J19/08
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 韓丁

1.一種微粒制造裝置，具有：

真空室；

材料供給裝置，與所述真空室連接并進行材料粒子的供給；

多根電極，與所述真空室連接，前端向所述真空室內突出，產生基于電弧放電的等離子體；

交流電源，分別與所述電極連接；和

回收裝置，與所述真空室連接并回收微粒，

在所述真空室內產生所述電弧放電，從所述材料粒子制造所述微粒，

在所述真空室內，供給包含所述材料粒子的材料氣體的所述材料供給裝置的多個材料供給口被設置于比所述多根電極更靠鉛垂方向的下側的位置，

在所述材料供給裝置的所述多個材料供給口的內周，配置供給第1氣體的第1氣體供給口，并且在所述多個材料供給口的外周，配置供給第2氣體的多個第2氣體供給口，

所述材料供給裝置的所述多個材料供給口被配置于比連結所述多根電極前端的圓周更靠內側的位置，

以比所述材料氣體的流速快的流速將所述第1氣體向所述真空室內供給，并且以比所述材料氣體的流速慢的流速將所述第2氣體向所述真空室內供給。

2.根據權利要求1所述的微粒制造裝置，其中，

在從鉛垂上側觀察的情況下，所述第2氣體供給口被配置于所述多根電極與電極之間。

3.根據權利要求2所述的微粒制造裝置，其中，

所述第2氣體供給口被配置于比連結所述多根電極前端的圓周更靠外側的位置。

4.根據權利要求1所述的微粒制造裝置，其中，

所述微粒制造裝置還具備：流量調節裝置，與所述材料供給裝置連接，能夠分別調節從所述材料供給裝置供給的所述材料氣體以及從所述第1氣體供給口以及所述第2氣體供給口供給的所述第1氣體以及所述第2氣體的流量。

5.一種微粒制造方法，利用權利要求4所述的微粒制造裝置，

產生所述電弧放電，

將所述材料氣體向所述電弧放電供給，

生成所述微粒，

在將所述材料氣體從所述材料供給裝置的所述多個材料供給口向所述真空室內的所述電弧放電供給時，以比所述材料氣體的流速快的流速將所述第1氣體向所述真空室內供給，并且以比所述材料氣體的流速慢的流速將所述第2氣體向所述真空室內供給。

6.一種微粒制造方法，利用權利要求4所述的微粒制造裝置，

產生所述電弧放電，

將所述材料氣體向所述電弧放電供給，

生成所述微粒，

在將所述材料氣體從所述材料供給裝置的所述多個材料供給口向所述真空室內的所述電弧放電供給時，以比所述材料氣體的流速快的流速將所述第1氣體向所述真空室內供給，并且以比所述材料氣體的流速慢的流速將所述第2氣體向所述真空室內供給，

并且通過所述流量調節裝置使來自所述各材料供給口的所述材料粒子的供給的定時與所述第1氣體或第2氣體的供給的定時同步。