[發明專利]關鍵尺寸測試條圖形結構、光掩模及材料層

有效

• 申請號: 201810210226.2
• 申請日: 2018-03-14
• 公開（公告）號: CN110277370B
• 公開（公告）日: 2020-11-03
• 發明（設計）人: 不公告發明人
• 申請（專利權）人: 長鑫存儲技術有限公司
• 主分類號: H01L23/544
• 分類號: H01L23/544;G03F1/44
• 代理公司: 北京市鑄成律師事務所 11313
• 代理人: 張臻賢;武晨燕

1.一種關鍵尺寸測試條圖形結構，其特征在于，包括：

第一測試條框，設置于一矩形區域中，所述第一測試條框具有第一測試部、第二測試部和第三測試部，所述第二測試部的一端部連接所述第一測試部的一側邊，所述第二測試部的另一端部連接所述第三測試部的一端部，并且所述第一測試部與所述第三測試部相互平行且兩者具有不對稱的寬度和長度，以形成方位辨識特征，所述方位辨識特征包括所述第一測試部相對于所述第三測試部突出的部分。

2.如權利要求1所述的關鍵尺寸測試條圖形結構，其特征在于，所述第一測試條框，以特定配置方式設置于所述矩形區域中，所述特定配置方式使所述矩形區域同步形成與所述第一測試條框互為凹凸反置的第二測試條框；

其中，所述第二測試條框具有第四測試部、第五測試部和第六測試部，所述第五測試部的一端部連接所述第四測試部的一側邊，所述第五測試部的另一端部連接所述第六測試部的一端部，以及所述第四測試部與所述第六測試部相互平行且兩者具有不對稱的寬度和長度，并且，所述第四測試部與所述第一測試部的長度和寬度均相同，所述第五測試部與所述第二測試部的長度和寬度均相同，所述第六測試部與所述第三測試部的長度和寬度均相同。

3.如權利要求2所述的關鍵尺寸測試條圖形結構，其特征在于，所述第一測試條框還包括第七測試部，平行于所述第二測試部設置，所述第七測試部連接所述第一測試部遠離所述方位辨識特征的一端部和所述第三測試部遠離所述方位辨識特征的一端部，使得所述第一測試部的一部分、所述第二測試部、所述第三測試部和所述第七測試部圍成一第一內矩形區域；以及

所述第二測試條框還包括第八測試部，平行于所述第五測試部設置，所述第八測試部連接所述第四測試部接近所述方位辨識特征的一端部和所述第六測試部遠離所述方位辨識特征的一端部，使得所述第四測試部的一部分、所述第五測試部、所述第六測試部和所述第八測試部圍成一第二內矩形區域；

其中，所述第七測試部與所述第二測試部兩者具有相同的長度但不相同的寬度。

4.如權利要求3所述的關鍵尺寸測試條圖形結構，其特征在于，所述第一測試條框成P型結構，所述第二測試條框成d型結構，并且所述第一測試條框與所述第二測試條框榫接。

5.如權利要求1所述的關鍵尺寸測試條圖形結構，其特征在于，所述第一測試條框還包括周邊測試部，平行于所述第二測試部設置，所述周邊測試部連接所述第一測試部遠離所述方位辨識特征的一端部和所述第三測試部遠離所述方位辨識特征的一端部，使得所述第一測試部的一部分、所述第二測試部、所述第三測試部和所述周邊測試部圍成一內矩形區域；

其中，所述周邊測試部與所述第二測試部兩者具有相同的長度但不相同的寬度。

6.如權利要求5所述的關鍵尺寸測試條圖形結構，其特征在于，在所述第一測試條框外的矩形區域中還包括至少兩個相互平行的內置測試部；其中，所述內置測試部平行于所述第一測試部且不與所述第一測試條框連接。

7.如權利要求6所述的關鍵尺寸測試條圖形結構，其特征在于，所述至少兩個相互平行的內置測試部的寬度按排列順序往遠離所述方位辨識特征的方向逐個遞增。

8.如權利要求1所述的關鍵尺寸測試條圖形結構，其特征在于，所述關鍵尺寸測試條圖形結構中測試部的最小寬度為曝光使所述關鍵尺寸測試條圖形結構形成于材料層的光的半波長與所述曝光的光學鏡頭的孔徑兩者的比值。

9.如權利要求1所述的關鍵尺寸測試條圖形結構，其特征在于，還包括用于形成所述關鍵尺寸測試條的材料層的標識名稱，設置在所述矩形區域內。

10.一種材料層，其特征在于，包括：多個晶方與所述多個晶方之間的切割區，其中，如權利要求1所述的關鍵尺寸測試條圖形結構形成于所述切割區中。

11.一種光掩模，其特征在于，包括晶方圖案和如權利要求1所述的關鍵尺寸測試條圖形結構對應的圖案，所述關鍵尺寸測試條用于測量所述晶方圖案的關鍵尺寸。