[發明專利]一種夾具冷卻裝置及納米材料制作設備在審
| 申請號: | 201810208985.5 | 申請日: | 2018-03-14 |
| 公開(公告)號: | CN108193185A | 公開(公告)日: | 2018-06-22 |
| 發明(設計)人: | 劉忠林;畢凱 | 申請(專利權)人: | 嘉興岱源真空科技有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/35 | 分類號: | C23C14/35;C23C14/54;C23C14/50;B82Y40/00 |
| 代理公司: | 北京中政聯科專利代理事務所(普通合伙) 11489 | 代理人: | 姚海波 |
| 地址: | 314300 浙江省嘉興*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 夾具 轉軸 冷卻通道 接頭件 冷卻管道 冷卻裝置 納米材料 制作設備 內腔 外腔 連通 冷卻工件 使用壽命 轉軸轉動 上端 進水 排出 下端 | ||
一種夾具冷卻裝置及納米材料制作設備,通過在轉軸中設有內腔及外腔,在夾具中設有冷卻通道,上冷卻管道連通冷卻通道的上端與轉軸的內腔,下冷卻管道連通冷卻通道的下端及轉軸的外腔,接頭件與轉軸轉動連接,通過接頭件進水,水流經夾具及轉軸后經接頭件排出,如此可冷卻工件及夾具、提高工件質量及延長夾具的使用壽命。
技術領域
本發明涉及納米材料制作領域,特別是一種夾具冷卻裝置及納米材料制作設備。
背景技術
濺射法制作納米材料的方式有:磁控濺射、偏壓濺射及反應濺射等。其中磁控濺射的原理為:電子在電場的作用下加速飛向基片的過程中與氬原子發生碰撞,電離出大量的氬離子和電子,電子飛向基片。氬離子在電場的作用下加速轟擊靶材,濺射出大量的靶材原子,呈中性的靶原子沉積在基片上成膜。二次電子在加速飛向基片的過程中受到磁場洛侖磁力的影響,被束縛在靠近靶面的等離子體區域內,該區域內等離子體密度很高,二次電子在磁場的作用下圍繞靶面作圓周運動。
磁控濺射制作納米材料可用來對放置在基材上的工件,如軸瓦,進行鍍膜。基材與工件放置于真空室中,鍍膜前需要對真空室進行加熱,用燈絲發出離子對工件進行清洗,得到較佳的鍍膜效果。過高的溫度會導致軸瓦損毀,影響工件的質量及夾具的使用壽命。
發明內容
有鑒于此,本發明提供了一種可對工件及夾具進行散熱、提高工件質量及延長夾具使用壽命的夾具冷卻裝置及納米材料制作設備,以解決上述問題。
一種夾具冷卻裝置,包括夾具轉盤、若干垂直設置于夾具轉盤上的夾具、轉盤驅動機構、轉軸及冷卻機構,所述轉盤驅動機構驅動夾具轉盤轉動,所述冷卻機構包括下冷卻管道、上冷卻管道及接頭件,所述轉軸穿過夾具轉盤的中部并具有相互隔絕的內腔及外腔,所述夾具中設有冷卻通道,上冷卻管道連通冷卻通道的上端與轉軸的內腔,下冷卻管道連通冷卻通道的下端及轉軸的外腔,接頭件與轉軸轉動連接,所述接頭件上設有進水端及出水端。
進一步地,所述轉盤驅動機構的輸出端設有驅動齒輪,轉盤驅動機構的下側面設有從動齒輪,轉盤驅動機構的驅動齒輪與轉盤驅動機構的從動齒輪嚙合。
進一步地,所述轉軸的外側壁與接頭件的內側壁之間設有至少一個密封圈。
進一步地,所述進水端與外腔連通,出水端與內腔連通。
進一步地,所述進水端與內腔連通,出水端與外腔連通。
進一步地,所述夾具的截面呈弧形或半圓環型。
進一步地,所述夾具包括主體及張緊件,所述張緊件連接主體的兩端,用
于調節主體的張緊度。
一種納米材料制作設備,具有如上所述的夾具冷卻裝置。
與現有技術相比,本發明的夾具冷卻裝置及納米材料制作設備通過在轉軸中設有內腔及外腔,在夾具中設有冷卻通道,上冷卻管道連通冷卻通道的上端與轉軸的內腔,下冷卻管道連通冷卻通道的下端及轉軸的外腔,接頭件與轉軸轉動連接,通過接頭件進水,水流經夾具及轉軸后經接頭件排出,如此可冷卻工件及夾具、提高工件質量及延長夾具的使用壽命。
附圖說明
以下結合附圖描述本發明的實施例,其中:
圖1為本發明提供的夾具冷卻裝置的剖視圖。
圖2為圖1中的轉軸的截面示意圖。
圖3為圖1中A部分的放大示意圖。
圖4為圖1中的俯視圖。
圖5為圖4中B部分的放大示意圖。
具體實施方式
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