[發明專利]一種用于多發多收合成孔徑雷達的三維成像方法有效
| 申請號: | 201810205477.1 | 申請日: | 2018-03-13 |
| 公開(公告)號: | CN110275164B | 公開(公告)日: | 2022-03-18 |
| 發明(設計)人: | 周劍雄;朱榮強 | 申請(專利權)人: | 中國人民解放軍國防科技大學 |
| 主分類號: | G01S13/90 | 分類號: | G01S13/90 |
| 代理公司: | 長沙正奇專利事務所有限責任公司 43113 | 代理人: | 馬強;李美麗 |
| 地址: | 410073 湖南*** | 國省代碼: | 湖南;43 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 用于 多發 合成孔徑雷達 三維 成像 方法 | ||
1.一種用于多發多收合成孔徑雷達的三維成像方法,其特征在于,包括以下步驟:
步驟S1:對每一個掃描位置處的多發多收陣列采集的回波數據進行二維成像,并能在多發多收陣列掃描的同時進行成像處理,
所述步驟S1中對每一個掃描位置處的多發多收陣列采集的回波數據進行二維成像的方法包括以下步驟:
步驟S11:計算多發多收陣列采集的測量數據S0(u,v,k;p)沿u向和v向的二維傅里葉變換,得到數據S1(ku,kv,k;p),其中u為發射域,v為接收域,k=2πf/c,f為頻率,c為電磁波的傳播速度,ku為發射方位波數且是對應于u的傅里葉變量,kv為接收方位波數且是對應于v的傅里葉變量,向量p為多發多收陣列的位置;
步驟S12:對數據S1(ku,kv,k;p)在k域進行插值,得到在kr域等間隔采樣的數據S2(ku,kv,kr;p),其中kr為斜距波數且
步驟S13:將數據S2(ku,kv,kr;p)從ku-kv-kr域變換至kx-kr域,得到數據S3(kx,kr;p),其中kx為方位波數且kx=ku+kv;
步驟S14:計算數據S3(kx,kr;p)沿kx向和kr向的二維逆傅里葉變換,得到二維成像結果S4(l,r;p),其中l為對應于kx的逆傅里葉變量,表示成像結果沿陣列向的坐標位置;r為對應于kr的逆傅里葉變量,表示成像結果沿垂直于陣列向的坐標位置;
步驟S2:將經過步驟S1處理后得到的每一個掃描位置處對應的二維成像結果S4(l,r;p)分別投影至三維空間得到S5(x,y,z;p),
所述步驟S2具體包括以下步驟:
步驟S21:取定三維空間(x,y,z)內的成像點位置;
步驟S22:對于三維空間(x,y,z)內的成像點位置,任意一個掃描位置處對應的二維成像結果S4(l,r;p)在該成像點位置處的投影結果為S5(x,y,z;p),所述投影結果S5(x,y,z;p)與所述二維成像結果S4(l,r;p)滿足關系:當三維空間(x,y,z)內的成像點在步驟S1所述多發多收陣列上的投影位置為l且與步驟S1所述多發多收陣列的距離為r時,S5(x,y,z;p)=S4(l,r;p);
步驟S3:將經過步驟S2處理后得到的所有掃描位置處對應的三維投影結果相加。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于中國人民解放軍國防科技大學,未經中國人民解放軍國防科技大學許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201810205477.1/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





