[發明專利]基于納米結構的光學堆及具有該光學堆的顯示器

有效

• 申請號: 201810205378.3
• 申請日: 2012-11-02
• 公開（公告）號: CN108594338B
• 公開（公告）日: 2019-11-26
• 發明（設計）人: 代海霞;邁克爾·A·斯貝德;杰弗瑞·沃克
• 申請（專利權）人: 凱姆控股有限公司
• 主分類號: G02B1/11
• 分類號: G02B1/11;G06F3/041;G06F3/045;H01B1/16;B82Y20/00
• 代理公司: 11006 北京律誠同業知識產權代理有限公司
• 代理人: 王玉雙;祁建國<國際申請>=<國際公布>

1.光學堆，包括：

至少一個納米結構層；

至少一個基底，與所述納米結構層相鄰，其中所述納米結構層包括多個導電納米結構，以及當從所述光學堆的入射光側觀察時，所述入射光的漫反射小于所述入射光的6％；以及

位于所述納米結構層中的導電區域和非導電區域，所述導電區域具有第一片電阻，所述非導電區域具有第二片電阻，其中所述第二片電阻至少比所述第一片電阻大10³倍；

其中所述納米結構層還包括嵌有所述多個導電納米結構的絕緣介質，所述絕緣介質為HPMC，所述多個導電納米結構為銀納米線，以及所述HPMC與所述多個導電納米結構的重量比為1:1，所述納米結構層具有小于100ohms/sq的該第一片電阻；

其中所述光學堆被定向，以使得所述基底比所述多個導電納米結構更鄰近于所述入射光，還包括插設在所述基底與所述納米結構層之間的上涂覆層，所述上涂覆層具有1.5或更小的折射率。

2.如權利要求1所述的光學堆，其中各納米結構不具有有機涂覆層或具有低折射率有機涂覆層。

3.如權利要求1所述的光學堆，其中所述上涂覆層與所述絕緣介質為相同的材料。

4.如權利要求3所述的光學堆，其中所述上涂覆層為具有1.45或更小的折射率的低折射率OCA層。

5.如權利要求1-3中任一項所述的光學堆，還包括直接位于所述納米結構層之下的下涂覆層，其中所述下涂覆層的折射率高于所述絕緣介質的折射率。

6.如權利要求5所述的光學堆，其中所述下涂覆層具有至少1.65的折射率。

7.如權利要求6所述的光學堆，其中所述下涂覆層包括TiO₂、聚酰亞胺、SiO₂或ZnO₂。

8.如權利要求5所述的光學堆，還包括最外側覆蓋件層，所述最外側覆蓋件層最鄰近于所述入射光并具有至少1.17的折射率。

9.如權利要求8所述的光學堆，其中所述最外側覆蓋件層為TiO₂層。

10.一種顯示器，包括如權利要求1-9中任一項所述的光學堆以及LCD模塊，其中所述光學堆和所述LCD模塊限定空間，其中所述空間填充有具有大于1的折射率的透明光學結合材料或折射率流體。