[發(fā)明專利]光學(xué)成像系統(tǒng)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201810200276.2 | 申請(qǐng)日: | 2018-03-12 |
| 公開(公告)號(hào): | CN108873250B | 公開(公告)日: | 2020-04-14 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 張永明;賴建勛;唐乃元 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 先進(jìn)光電科技股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | G02B13/00 | 分類號(hào): | G02B13/00;G02B13/18 |
| 代理公司: | 上海思微知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 智云 |
| 地址: | 中國臺(tái)灣中部科學(xué)工業(yè)*** | 國省代碼: | 臺(tái)灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 光學(xué) 成像 系統(tǒng) | ||
1.一種光學(xué)成像系統(tǒng),其特征在于,具有屈折力的透鏡僅為八枚,由物側(cè)至像側(cè)依次包括:
一第一透鏡,具有屈折力;
一第二透鏡,具有屈折力;
一第三透鏡,具有屈折力;
一第四透鏡,具有屈折力;
一第五透鏡,具有屈折力;
一第六透鏡,具有屈折力;
一第七透鏡,具有屈折力;
一第八透鏡,具有屈折力;
一第一成像面,其為一特定垂直于光軸的可見光像平面并且其中心視場(chǎng)于第一空間頻率的離焦調(diào)制轉(zhuǎn)換對(duì)比轉(zhuǎn)移率有最大值;以及
一第二成像面,其為一特定垂直于光軸的紅外光像平面并且其中心視場(chǎng)于第一空間頻率的離焦調(diào)制轉(zhuǎn)換對(duì)比轉(zhuǎn)移率有最大值;
其中所述第一透鏡至所述第八透鏡的屈折力分別為負(fù)正正負(fù)正正正負(fù)、負(fù)負(fù)正正正負(fù)正正或者是負(fù)負(fù)正負(fù)正負(fù)正正,所述光學(xué)成像系統(tǒng)的焦距為f,所述光學(xué)成像系統(tǒng)的入射光瞳直徑為HEP,所述第一透鏡物側(cè)面至所述第一成像面于光軸上具有一距離HOS,所述光學(xué)成像系統(tǒng)的最大可視角度的一半為HAF,所述光學(xué)成像系統(tǒng)于所述第一成像面上垂直于光軸具有一最大成像高度HOI,所述第一成像面與所述第二成像面間于光軸上的距離為FS,所述第一透鏡至所述第八透鏡于1/2HEP高度且平行于光軸的厚度分別為ETP1、ETP2、ETP3、ETP4、ETP5、ETP6、ETP7以及ETP8,前述ETP1至ETP8的總和為SETP,所述第一透鏡至所述第八透鏡于光軸的厚度分別為TP1、TP2、TP3、TP4、TP5、TP6、TP7以及TP8,前述TP1至TP8的總和為STP,其滿足下列條件:f/HEP=1.2;55deg≤HAF≤100deg;0.993≤SETP/STP<1;以及10μm≤│FS│≤50μm。
2.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)成像系統(tǒng),其特征在于,所述紅外光的波長(zhǎng)介于700nm至1300nm以及所述第一空間頻率以SP1表示,其滿足下列條件:SP1≤440cycles/mm。
3.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)成像系統(tǒng),其特征在于,可見光在所述第一成像面上的光軸、0.3HOI以及0.7HOI三處于空間頻率55cycles/mm的調(diào)制轉(zhuǎn)換對(duì)比轉(zhuǎn)移率分別以MTFE0、MTFE3以及MTFE7表示,其滿足下列條件:MTFE0≥0.2;MTFE3≥0.01;以及MTFE7≥0.01。
4.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)成像系統(tǒng),其特征在于,所述第一透鏡物側(cè)面上于1/2HEP高度的坐標(biāo)點(diǎn)至所述第八透鏡像側(cè)面上于1/2HEP高度的坐標(biāo)點(diǎn)間平行于光軸的水平距離為EIN,其滿足下列公式:0.3≤SETP/EIN<1。
5.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)成像系統(tǒng),其特征在于,所述光學(xué)成像系統(tǒng)包括一濾光組件,所述濾光組件位于所述第八透鏡以及所述第一成像面之間,所述第八透鏡像側(cè)面上于1/2HEP高度的坐標(biāo)點(diǎn)至所述濾光組件間平行于光軸的距離為EIR,所述第八透鏡像側(cè)面上與光軸的交點(diǎn)至所述濾光組件間平行于光軸的距離為PIR,其滿足下列公式:0.1≤EIR/PIR≤1.1。
6.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)成像系統(tǒng),其特征在于,所述第一透鏡物側(cè)面上于1/2HEP高度的坐標(biāo)點(diǎn)至所述第一成像面間平行于光軸的水平距離為ETL,所述第一透鏡物側(cè)面上于1/2HEP高度的坐標(biāo)點(diǎn)至所述第八透鏡像側(cè)面上于1/2HEP高度的坐標(biāo)點(diǎn)間平行于光軸的水平距離為EIN,其滿足下列條件:0.2≤EIN/ETL<1。
7.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)成像系統(tǒng),其特征在于,所述第八透鏡像側(cè)面上于1/2HEP高度的坐標(biāo)點(diǎn)至所述第一成像面間平行于光軸的水平距離為EBL,所述第八透鏡像側(cè)面上與光軸的交點(diǎn)至所述第一成像面平行于光軸的水平距離為BL,其滿足下列公式:0.1≤EBL/BL≤1.5。
8.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)成像系統(tǒng),其特征在于,還包括一光圈,并且所述光圈至所述第一成像面于光軸上具有一距離InS,其滿足下列公式:0.2≤InS/HOS≤1.1。
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