[發(fā)明專利]一種氮化鉻基硬質(zhì)涂層的過渡層的制備方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201810196898.2 | 申請日： | 2018-03-10 |
| 公開（公告）號： | CN108531875A | 公開（公告）日： | 2018-09-14 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 楊坤;李鎮(zhèn)江;王博;王雪艷;劉云虎;孫茂珠;張吉東 | 申請（專利權(quán)）人： | 石河子大學(xué) |
| 主分類號： | C23C14/35 | 分類號： | C23C14/35;C23C14/02;C23C14/16;C23C14/06 |
| 代理公司： | 北京方圓嘉禾知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11385 | 代理人： | 董芙蓉 |
| 地址： | 832003 新疆維吾爾*** | 國省代碼： | 新疆;65 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 電離 氮化鉻 過渡層 基硬 制備 等離子體 致密 氣體分子碰撞 電場 磁場方向 惰性氣體 放電氣體 復(fù)雜曲線 高頻電場 過渡涂層 輝光放電 離子沉積 螺旋前進 氣體放電 氣體離子 氣體原子 射頻電場 外加電壓 真空系統(tǒng) 振蕩運動 正負電極 電極 負電位 高真空 有效地 自動地 基底 濺射 轟擊 兩極 | ||
【權(quán)利要求書】：
1.一種氮化鉻基硬質(zhì)涂層的過渡層的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：
鋼制基底用甲苯、丙酮和無水酒精各超聲清洗10min并烘干后裝入真空室；將磁控濺射真空室背底真空抽至9.0×10-4Pa后，通入高純Ar氣，Ar流量為20-60sccm，總氣壓保持在2.0-3.0Pa；開啟Ti靶射頻濺射電源，逐漸調(diào)大濺射電流，使Ti靶起輝，將Ti靶的濺射功率調(diào)至為120-200W，濺射電壓為1100-1500V，濺射電流為0.11-0.13A，先進行預(yù)濺射，不打開靶材擋板對Ti靶表面進行轟擊清洗10min，之后打開Ti靶擋板進行過渡層沉積，沉積時間60-120min。
下載完整專利技術(shù)內(nèi)容需要扣除積分，VIP會員可以免費下載。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息，商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于石河子大學(xué)，未經(jīng)石河子大學(xué)許可，擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作，請聯(lián)系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201810196898.2/1.html，轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
C23 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制
C23C 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面擴散法，化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆，例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
C23C 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面擴散法，化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆，例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
