[發明專利]一種顯示面板及其制備方法、顯示裝置在審
| 申請號: | 201810196051.4 | 申請日: | 2018-03-09 |
| 公開(公告)號: | CN108445668A | 公開(公告)日: | 2018-08-24 |
| 發明(設計)人: | 王曉杰;高云;孫樂;連龍;李峰;唐烏力吉白爾 | 申請(專利權)人: | 京東方科技集團股份有限公司;鄂爾多斯市源盛光電有限責任公司 |
| 主分類號: | G02F1/1335 | 分類號: | G02F1/1335;G02F1/1333 |
| 代理公司: | 北京金信知識產權代理有限公司 11225 | 代理人: | 黃威;喻嶸 |
| 地址: | 100015 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 襯底基板 顯示面板 光柵 顯示裝置 遮光層 制備 相對設置 液晶層 顯示屏 | ||
1.一種顯示面板,其包括:相對設置的CF基板和TFT基板,以及所述CF基板和TFT基板之間設置的液晶層;其中,
所述CF基板包括:第一襯底基板,所述第一襯底基板相對于TFT基板的一側設置有由第一遮光層形成的第一光柵;
所述TFT基板包括:第二襯底基板,該第二襯底基板相對于CF基板的一側設置有由第二遮光層形成的第二光柵。
2.根據權利要求1所述的顯示面板,其中,所述第一光柵包括多個第一狹縫區域和第一狹縫區域之間的第一遮擋區域,所述多個第一狹縫區域與陣列基板矩陣排列的像素區域一一對應設置,所述第一遮擋區域位于相鄰像素區域之間的不透光區域,使得該第一遮擋區域作為該CF基板的黑矩陣;
所述第二光柵包括多個第二狹縫區域和第二狹縫區域之間的第二遮擋區域,所述多個第二狹縫區域與陣列基板矩陣排列的像素區域一一對應設置,所述第二遮擋區域至少包括設置于所述像素區域中的薄膜晶體管底部的區域,使得該區域作為薄膜晶體管底部的遮擋部。
3.根據權利要求2所述的顯示面板,其中,所述第一光柵由制作黑矩陣的光刻膠制作而成。
4.根據權利要求2所述的顯示面板,其中,所述第二光柵由導電遮光層制作而成。
5.根據權利要求4所述的顯示面板,其中,所述第二光柵由濺射工藝形成的鉬層圖形化后制作而成。
6.根據權利要求1所述的顯示面板,其中,所述CF基板上的彩膜層直接位于所述第一光柵之上。
7.根據權利要求6所述的顯示面板,其中,所述彩膜層完全覆蓋第一光柵的所述狹縫區域。
8.一種顯示面板的制備方法,其用于制備如權利要求1-7中任意一項所述的顯示面板,并包括:
制備CF基板,其中,在所述CF基板的第一襯底基板相對于TFT基板的一側設置有由第一遮光層形成的第一光柵;
制備TFT基板,其中,在所述TFT基板的第二襯底基板相對于CF基板的一側設置有由第二遮光層形成的第二光柵;
基于所述CF基板和TFT基板形成顯示面板。
9.根據權利要求8所述的方法,其中,所述制備CF基板包括:
在所述第一襯底基板上涂覆黑矩陣的光刻膠,形成第一遮光層;
對所述第一遮光層進行曝光、顯影和刻蝕,形成包括多個第一狹縫區域以及第一狹縫區域之間的第一遮擋區域的第一光柵,該多個第一狹縫區域與陣列基板矩陣排列的像素區域一一對應設置,所述第一遮擋區域位于相鄰像素區域之間的不透光區域,使得該遮擋區域作為該CF基板的黑矩陣;
所述制備TFT基板包括:
通過濺射工藝在所述第二襯底基板上形成的導電遮光層,所述導電遮光層為所述第二遮光層;
對所述第二遮光層進行曝光、顯影和刻蝕,形成包括多個第二狹縫區域和第二狹縫區域之間的遮擋區域的第二光柵,該多個第二狹縫區域與陣列基板矩陣排列的像素區域一一對應設置,所述第二遮擋區域至少包括設置于所述像素區域中的薄膜晶體管底部的區域,使得該區域作為薄膜晶體管底部的遮擋部。
10.一種顯示裝置,其包括如權利要求1-7中任意一項所述的顯示面板。
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