[發明專利]一種噻嗪低聚物及制備方法、包含該噻嗪低聚物的石墨烯研磨分散液以及感光組合物與應用有效
| 申請號： | 201810195722.5 | 申請日： | 2018-03-09 |
| 公開（公告）號： | CN108610305B | 公開（公告）日： | 2020-07-28 |
| 發明（設計）人： | 高振先;邱文博;任廣輔;鐘美弟;廖江華;雷立猛 | 申請（專利權）人： | 深圳烯旺科技有限公司 |
| 主分類號： | C07D279/06 | 分類號： | C07D279/06;C07D417/12;G03F7/004;G03F7/027 |
| 代理公司： | 廣州市越秀區哲力專利商標事務所(普通合伙) 44288 | 代理人： | 齊則琳;張雷 |
| 地址： | 518000 廣東省深圳市南山區*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 噻嗪低聚物 制備 方法 包含 石墨 研磨 分散 以及 感光 組合 應用 | ||
1.一種噻嗪低聚物，其特征在于，具有下列式I的結構單元：
其中，R1＝Me或H，R2＝Me或H，R3為以下基團中的任一種：
或以下基團中的任一種：
其中，*標注的是R3基團連接位點；n＝1或2。
2.一種制備如權利要求1所述的噻嗪低聚物的方法，其特征在于，包括以下步驟：
1)式II所示的化合物A與CH2＝CH-(CH2)n-COOM，得到式III所示的化合物B；其中M＝Na或H；
2)式III所示的化合物B與R3NH2反應，得到式I所示的噻嗪低聚物。
3.如權利要求2所述的方法，其特征在于，步驟1)和步驟2)中，均添加對苯二酚作為熱阻聚劑。
4.一種石墨烯研磨分散液，其特征在于，包括石墨烯分子晶體和具有下列通式I的噻嗪低聚物，
其中，R1＝Me或H，R2＝Me或H，R3為以下基團中的任一種：
或以下基團中的任一種：
其中，*標注的是R3基團連接位點；n＝1或2。
5.如權利要求4所述的石墨烯研磨分散液，其特征在于，所述噻嗪低聚物與所述石墨烯分子晶體的重量比為1:(0.25-5)。
6.如權利要求4所述的石墨烯研磨分散液，其特征在于，由按重量份計的以下組分組成：3-5份石墨烯分子晶體、5-20份噻嗪低聚物、5-20份的超分散劑和50-90份第一溶劑。
7.一種感光組合物，包含如權利要求4-6任一項所述的石墨烯研磨分散液，其特征在于，還包括光交聯單體、環氧丙烯酸共聚物、助劑和第二溶劑。
8.如權利要求7所述的感光組合物，其特征在于，由按重量份計的以下組分制成：10-20份石墨烯研磨分散液、10-30份光交聯單體、10-30份環氧丙烯酸共聚物、1-3份光引發劑、0.1-3份助劑和70-90份第二溶劑。
9.一種如權利要求7或8所述的感光組合物在片式或線性基材上的光刻涂層上的應用。
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