[發明專利]感光性組合物、硬化膜、彩色濾光片及電子器件在審
| 申請號: | 201810192316.3 | 申請日: | 2018-03-08 |
| 公開(公告)號: | CN108628094A | 公開(公告)日: | 2018-10-09 |
| 發明(設計)人: | 渡辺尚樹;岡本優紀 | 申請(專利權)人: | 捷恩智株式會社 |
| 主分類號: | G03F7/004 | 分類號: | G03F7/004;G02B5/20;C08G69/44 |
| 代理公司: | 北京同立鈞成知識產權代理有限公司 11205 | 代理人: | 彭雪瑞;臧建明 |
| 地址: | 日本東京千代*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 感光性組合物 硬化膜 彩色濾光片 電子器件 聚酯酰胺 多元羥基化合物 耐熱性 光聚合引發劑 環氧化合物 環氧硬化劑 聚合性雙鍵 四羧酸二酐 無機微粒子 殘膜率 解析性 平坦性 折射率 二胺 | ||
本發明涉及一種感光性組合物、硬化膜、彩色濾光片及電子器件。所述感光性組合物包含聚酯酰胺酸、具有聚合性雙鍵的化合物、光聚合引發劑、環氧化合物、環氧硬化劑、及無機微粒子,所述感光性組合物中,所述聚酯酰胺酸是通過使四羧酸二酐、二胺、及多元羥基化合物作為必需的原料成分進行反應而獲得。利用本發明的感光性組合物,可形成耐熱性、透明性、平坦性、殘膜率、解析性、及折射率優異的硬化膜。
技術領域
本發明涉及一種用于各種元件的感光性組合物、由所述感光性組合物所形成的硬化膜、及使用硬化膜的彩色濾光片及電子器件。
背景技術
在顯示元件等元件的制造步驟中,有時進行有機溶劑、酸、堿溶液等各種化學品處理,或者在通過濺射(sputtering)而成膜配線電極時,將表面局部地加熱為高溫。因此,有時為了防止各種元件的表面的劣化、損傷、變質而設置表面保護膜。對于這些保護膜,要求可耐受如上所述的制造步驟中的各種處理的各特性。具體而言,要求耐熱性、耐溶劑性·耐酸性·耐堿性等耐化學品性、耐水性、對玻璃等基底基板的密接性、透明性、耐劃傷性、平坦性、耐光性等。另外,在推進顯示元件的高視角化、高速響應化、高精細化、廣色域化等高性能化的現狀下,例如在用作彩色濾光片保護膜的情況下,期望透明性、耐熱性及耐溶劑性得到提高的材料。
另外,所述保護膜當然要滿足所述各自的作用,例如在用作頂部發射(topemission)型有機電致發光(electroluminescence,EL)元件的光學系統構件的情況下,為了提高光導出效率,也要求高折射率、高透明性。
用以形成這些保護膜的硬化性組合物的種類可大致分為感光性組合物、熱硬化性組合物。在形成膜時通過高溫加熱使熱硬化性組合物完全硬化,因此,即使在其后的步驟中加熱至高溫的情況下,產生的揮發成分也少,耐熱性優異。作為具有所述優異特性的熱硬化性的保護膜材料,例如存在有專利文獻1所示的聚酯酰胺酸組合物。然而,熱硬化性組合物無法形成微細圖案,當形成微細圖案時,需要抗蝕劑材料或大量的追加步驟。
另一方面,在感光性組合物的情況下,容易形成微細圖案,成形性優異。感光性組合物包含具有光聚合性基的聚合物或寡聚物或者單體與光聚合引發劑,且因以紫外線為代表的光的能量而引起化學反應,并進行硬化。經由感光性組合物在基板上的涂布、曝光、顯影、煅燒等步驟而形成微細圖案。
近年來,因圖案形成的容易性,感光性組合物的作為保護膜的需求增加,要求可以更高的顯影后殘膜率(以下表述為殘膜率)形成微細圖案的感光性組合物。另外,就用于光學系統構件中的目的而言,除了可以高殘膜率形成微細圖案以外,還要求硬化膜具有高折射率或高透明性、高耐熱性。
作為提供高折射率的硬化膜的感光性組合物的例子,如專利文獻2所示,報告有包含無機微粒子的感光性組合物的例子。但是,專利文獻2中公開了由包含丙烯酸系樹脂的感光性組合物所形成的硬化膜的透射率或折射率,但無法充分滿足耐熱性,要求進一步的改良。
另外,當在感光性組合物中添加無機微粒子時,在無機微粒子相對于感光性組合物中所含的樹脂的分散性差的情況下,會發生無機微粒子的凝聚,有時出現導致所獲得的硬化膜的透射率降低或殘膜率降低等問題。
[現有技術文獻]
[專利文獻]
[專利文獻1]日本專利特開2008-156546
[專利文獻2]日本專利特開2014-160228
發明內容
[發明所要解決的問題]
本發明的課題在于提供一種硬化膜,所述硬化膜的耐熱性、透明性、平坦性、進而尤其是殘膜率、解析性、折射率優異,以適用于彩色濾光片、絕緣膜、保護膜、或光波導等各種用途。另外,本發明的課題在于提供一種可形成此種硬化膜的感光性組合物。
[解決問題的技術手段]
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