[發明專利]一種具有壓電效應的靜電防霾復合網格布及其制備的靜電防霾紗窗

在審

• 申請號: 201810191133.X
• 申請日: 2018-03-08
• 公開（公告）號: CN110242200A
• 公開（公告）日: 2019-09-17
• 發明（設計）人: 李秀雙;牛琳;衛娜
• 申請（專利權）人: 北京中科艾加科技有限公司
• 主分類號: E06B9/52
• 分類號: E06B9/52;B03C3/155;H02N2/18
• 代理公司: 北京知元同創知識產權代理事務所(普通合伙) 11535
• 代理人: 劉元霞;謝怡婷

1.一種靜電防霾復合網格布，其特征在于，所述靜電防霾復合網格布包括支撐網格骨架和覆在支撐網格骨架表面的具有壓電效應的聚偏氟乙烯納米復合材料，所述聚偏氟乙烯納米復合材料包括聚偏氟乙烯以及表面羧基修飾的碳納米材料或表面羧基修飾的氧化石墨烯片層，其中，聚偏氟乙烯的結晶晶型以β相為主。

2.根據權利要求1所述的復合網格布，其特征在于，所述支撐網格骨架為尼龍、玻璃纖維、PP、PET等材料制備得到的支撐網格骨架。

優選地，所述支撐網格骨架的厚度為0.5-1mm，網孔大小為200-1000μm。

優選地，所述靜電防霾復合網格布中，所述聚偏氟乙烯納米復合材料的質量為20-50g/m²(支撐網格骨架)。

優選地，所述靜電防霾復合網格布的厚度為0.5-1mm，網孔大小為2-100μm。

3.根據權利要求1或2所述的復合網格布，其特征在于，所述表面羧基修飾的碳納米材料可以是表面羧基修飾的碳納米顆粒、表面羧基修飾的碳納米管或表面羧基修飾的碳納米片。

優選地，當選擇表面羧基修飾的碳納米材料時，所述表面羧基修飾的碳納米材料占所述聚偏氟乙烯納米復合材料總質量的0.2-10wt％；優選為0.5-2wt％，例如為0.5wt％、0.8wt％、0.9wt％、1.0wt％、1.5wt％、1.8wt％或2wt％。

優選地，當選擇表面羧基修飾的氧化石墨烯片層時，所述表面羧基修飾的氧化石墨烯片層占所述聚偏氟乙烯納米復合材料總質量的0.1-2wt％，例如為0.1％、0.2wt％、0.5wt％、0.75wt％、1.0wt％、1.5wt％或2wt％。

4.權利要求1-3任一項所述的靜電防霾復合網格布的制備方法，其特征在于，所述制備方法包括以下步驟：

將含有聚偏氟乙烯納米復合材料的溶液涂覆在支撐網格骨架表面，制備得到的所述靜電防霾復合網格布；或者，

將支撐網格骨架浸漬到含有聚偏氟乙烯納米復合材料的溶液中，再制成復合網格布，即制備得到所述靜電防霾復合網格布。

5.根據權利要求4所述的靜電防霾復合網格布的制備方法，其特征在于，所述靜電防霾復合網格布的制備方法包括如下步驟：

a)配制含有聚偏氟乙烯納米復合材料的溶液；

b)將步驟a)的含有聚偏氟乙烯納米復合材料的溶液涂覆在支撐網格骨架表面，固化，制備得到所述靜電防霾復合網格布；或者，

b’)將支撐網格骨架浸漬到步驟a)的含有聚偏氟乙烯納米復合材料的溶液中，固化，編制成所述靜電防霾復合網格布。

優選地，步驟a)中，所述溶液中的溶劑選自DMF。

優選地，步驟a)中，所述含有聚偏氟乙烯納米復合材料的溶液中的聚偏氟乙烯納米復合材料的質量濃度為5-30wt％，優選為8-20wt％，例如為8wt％、9wt％、10wt％、12wt％、14wt％、16wt％、18wt％或20wt％。

優選地，步驟b)中，所述涂覆優選為壓力涂覆，所述壓力涂覆是利用噴槍將含有聚偏氟乙烯納米復合材料的溶液均勻地噴涂在支撐網格骨架表面。

優選地，所述噴涂的流量(或速率)為1ml/s。

優選地，步驟b)和b’)中，所述的固化可以是在室溫下干燥1-3小時，或者在40-50℃下烘烤5-20min。

6.一種靜電防霾紗窗，其包括權利要求1-3任一項所述的靜電防霾復合網格布。

優選地，所述靜電防霾紗窗還包括位于所述靜電防霾復合網格布四周的邊框。

7.一種靜電吸附大氣顆粒物的方法，所述方法包括如下步驟：將權利要求1-3任一項所述的靜電防霾復合網格布或權利要求6所述的靜電防霾紗窗安裝在需要靜電吸附大氣顆粒物的地方。