[發(fā)明專利]顯示面板、顯示面板的制造方法和顯示裝置在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201810186462.5 | 申請日: | 2018-03-07 |
| 公開(公告)號: | CN108388044A | 公開(公告)日: | 2018-08-10 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 岳春波;宋志成;劉振國;劉衛(wèi)東 | 申請(專利權(quán))人: | 青島海信電器股份有限公司 |
| 主分類號: | G02F1/1335 | 分類號: | G02F1/1335;G02F1/1333;G02B5/30;G02B1/11 |
| 代理公司: | 北京三高永信知識產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11138 | 代理人: | 江崇玉 |
| 地址: | 266555 山東省青*** | 國省代碼: | 山東;37 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 顯示面板 金屬線柵偏振片 彩膜基板 量子點 液晶層 顯示裝置 陣列基板 反射率 透過率 增透膜 減小 制造 光照 | ||
1.一種顯示面板,其特征在于,所述顯示面板包括量子點彩膜基板和陣列基板以及液晶層,所述液晶層設(shè)置在所述量子點彩膜基板和所述陣列基板之間;
所述量子點彩膜基板和所述液晶層之間設(shè)置有金屬線柵偏振片;
所述金屬線柵偏振片遠離所述量子點彩膜基板的一面設(shè)有第一增透膜。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示面板,其特征在于,所述陣列基板包括襯底基板和依次設(shè)置在所述襯底基板上的第二增透膜和薄膜晶體管陣列。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的顯示面板,其特征在于,所述第一增透膜的厚度為所述顯示面板的背光源發(fā)出光線的峰值波長的1/4的奇數(shù)倍;
所述第二增透膜的厚度為所述顯示面板的背光源發(fā)出光線的峰值波長的1/4的奇數(shù)倍。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的顯示面板,其特征在于,所述第一增透膜的材料包括二氧化硅、氧化鋁和氧化鋅中的至少一種;
所述第二增透膜的材料包括氧化鋁、氧化鋯和氟化鎂中的至少一種。
5.一種顯示面板的制造方法,其特征在于,所述方法包括:
在量子點彩膜基板的主體內(nèi)側(cè)形成金屬線柵偏振片;
在所述金屬線柵偏振片遠離所述量子點彩膜基板的一面上形成第一增透膜;
將帶有金屬線柵偏振片的量子點彩膜基板和陣列基板對盒,并在所述金屬線柵偏振片和所述陣列基板之間設(shè)置液晶層。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的方法,其特征在于,所述在所述量子點彩膜基板上形成第一增透膜,包括:
通過溶膠-凝膠工藝在所述金屬線柵偏振片上形成所述第一增透膜。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的方法,其特征在于,所述陣列基板的制備方法包括:
通過蒸鍍工藝在襯底基板上形成第二增透膜;
在形成有所述第二增透膜的襯底基板上形成薄膜晶體管陣列,得到所述陣列基板。
8.一種顯示裝置,其特征在于,所述顯示裝置包括光源和權(quán)利要求1至4任一所述的顯示面板。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的顯示裝置,其特征在于,所述光源為單色光源。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的顯示裝置,其特征在于,所述單色光源為藍色光源。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于青島海信電器股份有限公司,未經(jīng)青島海信電器股份有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201810186462.5/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇:一種顯示用基板、顯示面板和顯示裝置
- 下一篇:一種顯示裝置
- 同類專利
- 專利分類
G02F 用于控制光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨立光源的光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對強度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的





