[發明專利]一種深冷處理設備及方法

有效

• 申請號: 201810186006.0
• 申請日: 2018-03-07
• 公開（公告）號: CN108277334B
• 公開（公告）日: 2023-07-25
• 發明（設計）人: 王俊杰;趙遠恒;郭嘉;陳六彪;顧開選
• 申請（專利權）人: 中國科學院理化技術研究所
• 主分類號: C21D6/04
• 分類號: C21D6/04;C21D1/00;C22F1/00
• 代理公司: 北京路浩知識產權代理有限公司 11002
• 代理人: 王瑩;吳歡燕

1.一種深冷處理設備，其特征在于，包括：對待處理工件進行深冷處理的箱體；所述箱體具有進氣口和主排氣口，熱氣體通過所述進氣口進入所述箱體內部，所述箱體內的氣體通過所述主排氣口排出，在所述箱體的進氣口和主排氣口之間、環繞所述箱體的側壁設置一環形進液槽，所述環形進液槽用于向所述箱體內輸送低溫介質，所述箱體內進氣口端的氣體穿過所述環形進液槽所在的平面從所述主排氣口排出，待處理工件進行深冷處理時，待處理工件從所述箱體的所述主排氣口端向所述進氣口端進行移動。

2.根據權利要求1所述的深冷處理設備，其特征在于，所述箱體的形狀為柱體，所述進氣口和所述主排氣口分別位于所述箱體的兩端，所述環形進液槽位于所述箱體的中部，且所述環形進液槽所在的平面與所述箱體的軸向垂直。

3.根據權利要求1或2所述的深冷處理設備，其特征在于，還包括：多個噴嘴；所述噴嘴的進口與所述環形進液槽相連，所述噴嘴的噴口朝向所述箱體內部，多個噴嘴沿著所述環形進液槽均勻分布在所述箱體的四周，所述環形進液槽與低溫輸液管的一端相連，所述低溫輸液管的另一端與低溫液體儲罐相連，所述低溫輸液管上串聯連接低溫調節閥。

4.根據權利要求3所述的深冷處理設備，其特征在于，還包括：氣體加熱器和風機；所述氣體加熱器的出口與所述進氣口相連，所述氣體加熱器的入口與所述風機相連。

5.根據權利要求1或2或4所述的深冷處理設備，其特征在于，在所述進氣口內部設置第一擋板，在所述主排氣口內部設置第二擋板，所述第一擋板與所述箱體的內側壁固連、與所述進氣口平行設置且開設有多個小孔，所述第二擋板與所述箱體的內側壁固連、與所述主排氣口平行設置且開設有多個小孔。

6.根據權利要求4所述的深冷處理設備，其特征在于，所述箱體的側壁上開設有側路排氣口，所述側路排氣口位于所述環形進液槽與所述進氣口之間，所述側路排氣口與第一閥門相連。

7.根據權利要求6所述的深冷處理設備，其特征在于，所述待處理工件放置在料斗中，所述箱體內部放置多個料斗，所述料斗的壁面為鏤空結構，在所述箱體靠近主排氣口處開設料斗入口，在所述箱體靠近進氣口處開設料斗出口，所述料斗入口處設置第一閘門，所述料斗出口處設置第二閘門。

8.根據權利要求7所述的深冷處理設備，其特征在于，還包括：傳送帶；所述傳送帶從所述進氣口以及所述主排氣口穿過所述箱體的內部，所述待處理工件放置在所述傳送帶的上方、由傳送帶帶動進行移動。

9.根據權利要求8所述的深冷處理設備，其特征在于，還包括：溫度傳感器、壓力傳感器和控制器；所述溫度傳感器與所述箱體的內側壁固連，所述壓力傳感器固定設置在所述傳送帶的下方且與所述傳送帶接觸，所述控制器分別與所述低溫調節閥、第一閥門、風機、傳送帶、溫度傳感器、壓力傳感器、第一閘門和第二閘門相連。

10.一種基于權利要求1-9任一項所述深冷處理設備的處理方法，其特征在于，利用對待處理工件深冷處理后的冷量直接對新的待處理工件進行預冷；對深冷處理后的待處理工件直接連續進行回火處理。