[發明專利]一種能夠抑制間接光照的三維形貌測量方法在審
| 申請號: | 201810183878.1 | 申請日: | 2018-03-07 |
| 公開(公告)號: | CN108507494A | 公開(公告)日: | 2018-09-07 |
| 發明(設計)人: | 趙慧潔;許陽;姜宏志;李旭東 | 申請(專利權)人: | 北京航空航天大學 |
| 主分類號: | G01B11/25 | 分類號: | G01B11/25 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 100191*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 光照 投影儀 極線 三維形貌測量 相機圖像 相機 極線幾何 出射 投射 三維形貌測量系統 雙目立體視覺系統 極線幾何關系 雙目立體視覺 結構光圖案 測量過程 多次反射 光學測量 三維測量 結構光 散射 反射 上極 像素 保留 | ||
1.一種能夠抑制間接光照的三維形貌測量方法,其特征在于:測量過程包括以下步驟:
(1)標定投影儀與相機組成的立體視覺系統的內外參數;
(2)對于投射圖像內的每條極線,根據內外參數生成投影儀極線掩模與相機極線掩模;
(3)對于每條極線,將原始結構光圖案與投影儀掩模相乘,得到投射圖案并用投影儀進行投射;
(4)投影儀每次投射時相機拍攝一幅圖像,并與對應的相機極線掩模相乘,只保留對應極線上的像素;
(5)累加乘以相機極線掩模后的所有相機圖像,得到抑制了間接光照的相機圖像;
(6)將投影儀原始投射結構光圖案與抑制了間接光照的相機圖像進行解碼、匹配與計算,得到被測表面的三維形貌。
2.根據權利要求1所述的方法,其特征在于:所述步驟(3)中完整的原始結構光圖案被分為多次投射,投影儀每次投射一條極線上對應的像素,相機拍攝的圖像上只保留對應極線上的像素,從而抑制間接光照。
3.根據權利要求1所述的方法,其特征在于:所述步驟(3)的結構光圖案包括但不限于格雷碼、散斑、相移條紋等。
4.根據權利要求1所述的方法,其特征在于:所述步驟(3)中當間接光照傳輸距離較近時(如次表面散射),投影儀可以同時投射多條等間隔的極線,相機拍攝的圖像上保留多條極線的像素。
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