[發(fā)明專利]一種制備碳納米管場(chǎng)效應(yīng)晶體管的方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201810182731.0 | 申請(qǐng)日: | 2018-03-06 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN108417714A | 公開(kāi)(公告)日: | 2018-08-17 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 藍(lán)河;魏勤;李勝夏 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 上海冪方電子科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L51/05 | 分類號(hào): | H01L51/05;H01L51/40;H01L51/30 |
| 代理公司: | 暫無(wú)信息 | 代理人: | 暫無(wú)信息 |
| 地址: | 201612 上海市松江*** | 國(guó)省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 碳納米管層 介電層 場(chǎng)效應(yīng)晶體管 方式形成電極 效應(yīng)晶體管 制備碳納米 噴墨打印 三維打印 碳納米管 滴涂 管場(chǎng) 基底 漏極 制備 | ||
1.一種碳納米管場(chǎng)效應(yīng)晶體管的制備方法,所述碳納米管場(chǎng)效應(yīng)管至少包含基底、柵極、介電層、漏極和碳納米管層,采用三維打印法制作電極層和介電層,其特征在于介電層材料是聚(4-乙烯基苯酚)或聚乙烯醇,碳納米管層采用滴涂碳納米管分散液的方式制備。
2.如權(quán)利要求1所述的制備方法,其中所述三維打印法是指噴墨打印法。
3.如權(quán)利要求1所述的制備方法,其中基底層可以是剛性基底或柔性基底。
4.如權(quán)利要求3所述的制備方法,其中剛性基底采用半導(dǎo)體材料,同時(shí)作為柵極。
5.如權(quán)利要求3所述的制備方法,其中柔性基底是聚酰亞胺、聚醚酮醚、聚苯硫醚、聚酰胺、聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯等塑料或者纖維基底材料中的一種。
6.如權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,介電層材料是聚(4-乙烯基苯酚)。
7.如權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,通過(guò)噴墨打印導(dǎo)電墨水制備所述電極層,所述導(dǎo)電墨水優(yōu)選為銀墨水。
8.如權(quán)利要求7的方法,其特征在于,打印完電極層和介電層后,分別經(jīng)過(guò)退火處理步驟再進(jìn)行下一步制備過(guò)程。
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- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L51-00 使用有機(jī)材料作有源部分或使用有機(jī)材料與其他材料的組合作有源部分的固態(tài)器件;專門(mén)適用于制造或處理這些器件或其部件的工藝方法或設(shè)備
H01L51-05 .專門(mén)適用于整流、放大、振蕩或切換且并具有至少一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或表面勢(shì)壘的;具有至少一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或表面勢(shì)壘的電容器或電阻器
H01L51-42 .專門(mén)適用于感應(yīng)紅外線輻射、光、較短波長(zhǎng)的電磁輻射或微粒輻射;專門(mén)適用于將這些輻射能轉(zhuǎn)換為電能,或者適用于通過(guò)這樣的輻射進(jìn)行電能的控制
H01L51-50 .專門(mén)適用于光發(fā)射的,如有機(jī)發(fā)光二極管
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