[發明專利]上浮量計算裝置、涂覆裝置以及涂覆方法

有效

• 申請號: 201810178987.4
• 申請日: 2018-03-05
• 公開（公告）號: CN108525942B
• 公開（公告）日: 2021-02-23
• 發明（設計）人: 塩田明仁;實井祐介
• 申請（專利權）人: 株式會社斯庫林集團
• 主分類號: B05C5/02
• 分類號: B05C5/02;B05C13/02;G01F23/292;G01B21/08
• 代理公司: 隆天知識產權代理有限公司 72003
• 代理人: 向勇;崔炳哲

本發明提供一種上浮量計算裝置、涂覆裝置以及涂覆方法。在使基板從載臺上浮地進行搬運并向基板涂覆涂覆液的涂覆裝置中，無論基板的種類，都能高精度地求出從載臺上浮的上浮量。涂覆裝置具有：板厚測定用傳感器，檢測吸附部件中的吸附基板的下表面的吸附面的鉛垂方向位置和基板中的被吸附部位的上表面區域的鉛垂方向位置；上浮測定用傳感器，檢測載臺的上表面的鉛垂方向位置和搬運至載臺的上方的基板的上表面的鉛垂方向位置；板厚計算部，基于吸附面的鉛垂方向位置以及被吸附部位的上表面區域的鉛垂方向位置來計算基板的板厚；上浮量計算部，基于載臺的上表面的鉛垂方向位置和基板的上表面的鉛垂方向位置、計算出的板厚來計算基板的上浮量。

技術領域

本發明涉及一邊在使基板從載臺上浮的狀態下沿水平方向搬運基板，一邊在基板的上表面涂覆涂覆液的涂覆裝置以及涂覆方法，以及在涂覆裝置中計算上浮量的上浮量計算裝置。應予說明，上述基板包括半導體基板、光掩模用基板、液晶顯示用基板、有機EL顯示用基板、等離子體顯示用基板、FED(Field Emission Display)用基板、光盤用基板、磁盤用基板、光磁盤用基板等。

背景技術

在半導體裝置、液晶顯示裝置等電子部件等的制造工序中，使用向基板的上表面噴出涂覆液來對基板的上表面進行涂覆的涂覆裝置。例如，專利第5346643號所記載的涂覆裝置，一邊向基板的下表面吹氣體，在使基板從載臺上浮的狀態下搬運該基板，一邊利用泵將涂覆液送至狹縫噴嘴，并從狹縫噴嘴的噴出口噴出至基板的表面，對基板的幾乎整體涂覆涂覆液。

在該專利第5346643號所記載的裝置中，設置有用于對檢測狹縫噴嘴以非接觸的方式檢測基板的上浮量的光學式傳感器。并且，基于該光學式傳感器的檢測結果來調整狹縫噴嘴在鉛垂方向的位置(以下稱作“鉛垂方向位置”)。這里，在基板由透明材料構成的情況下，能夠利用傳感器檢測3種鉛垂方向位置(上浮的基板的上表面的鉛垂方向位置、該基板的下表面的鉛垂方向位置、以及載臺的上表面的鉛垂方向位置)，能夠基于這些鉛垂方向位置來計算基板的板厚以及從載臺上浮的上浮量。

然而，若是包括遮光性材料的基板，例如是被實施金屬蒸鍍的基板等，則難以檢測基板的下表面的鉛垂方向位置。因此，在上述裝置中，以如下條件為前提進行涂覆處理：基板以吹向基板的下表面的氣體的狀況，例如氣體流量相對應的上浮量上浮。因此，例如，若上浮量由于氣體流量的變動而減少或變為零，則不能夠良好地進行基板搬運，其結果，存在涂覆處理的精度降低的情況。像這樣，上浮量是用于良好地進行高精度的涂覆處理的重要的物理量，盡管如此，存在如上述那樣使用固定值的情況。因此，一直以來，在一邊使基板上浮一邊進行涂覆處理的涂覆技術中，期望不管基板的種類，都能正確地求出上浮量的技術。

發明內容

本發明是鑒于上述課題而成的，目的在于提供一種在一邊使基板從載臺上浮地進行搬運一邊對基板涂覆涂覆液的涂覆裝置中，不管基板的種類，都能夠高精度地求出從載臺上浮的上浮量的技術。

本發明的第一方式是一種上浮量計算裝置，在涂覆裝置中計算基板從載臺上浮的上浮量，在所述涂覆裝置中，對一邊利用搬運部的吸附部件局部保持下表面一邊利用所述搬運部搬運至載臺的基板，從下方向施加浮力，使所述基板從所述載臺向上方上浮，并且，從噴嘴向上浮狀態的所述基板噴出涂覆液進行涂覆，其特征在于，所述上浮量計算裝置具有：板厚測定用傳感器，檢測所述吸附部件中的吸附所述基板的下表面的吸附面的鉛垂方向位置、和所述基板中的被所述吸附部件吸附的被吸附部位的上表面區域的鉛垂方向位置；上浮測定用傳感器，檢測所述載臺的上表面的鉛垂方向位置、和搬運至所述載臺的上方的所述基板的上表面的鉛垂方向位置；板厚計算部，基于由所述板厚測定用傳感器檢測出的所述吸附面的鉛垂方向位置及所述被吸附部位的上表面區域的鉛垂方向位置，來計算所述基板的板厚；以及上浮量計算部，基于由所述上浮測定用傳感器檢測出的所述載臺的上表面的鉛垂方向位置以及所述基板的上表面的鉛垂方向位置、由所述板厚計算部計算出的所述板厚，來計算所述基板的上浮量。