[發(fā)明專利]一種金屬銅表面氧化皮處理系統(tǒng)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201810178929.1 | 申請(qǐng)日: | 2018-03-05 |
| 公開(公告)號(hào): | CN108411319B | 公開(公告)日: | 2019-09-03 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 陳壯壯;李世群;李超;王濤 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 安徽明輝電氣有限公司 |
| 主分類號(hào): | C23G3/00 | 分類號(hào): | C23G3/00;C23F3/06 |
| 代理公司: | 廣州高炬知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44376 | 代理人: | 陳文龍 |
| 地址: | 239400 安徽*** | 國省代碼: | 安徽;34 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 攤鋪 封閉板 金屬銅表面 處理系統(tǒng) 烘干模塊 拋光模塊 清洗液 物料框 氧化皮 烘干 超聲波發(fā)生器 輸送帶 銅合金零件 氧化皮清理 分層隔離 干燥效率 清理設(shè)備 組件包括 橫梁 酸洗 支架 堆積 清洗 | ||
本發(fā)明屬于金屬銅表面清理設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域,具體的說是一種金屬銅表面氧化皮處理系統(tǒng),包括拋光模塊、物料框、攤鋪模塊和烘干模塊;拋光模塊包括箱體、超聲波發(fā)生器和封閉板組件;封閉板組件包括第一封閉板、第二封閉板和第三封閉板;攤鋪模塊包括第一支架、攤鋪輸送帶、橫梁和均料單元;物料框酸洗并水洗后,移至攤鋪模塊上方,利用攤鋪模塊將批量的零件攤鋪均勻,以便于提高干燥效率;零件通過攤鋪后即進(jìn)入烘干模塊進(jìn)行烘干。本發(fā)明通過將清洗液分層隔離,提高清洗液利用率;特別適用于批量銅及銅合金零件的氧化皮清理工作,能夠有效避免由于零件相互堆積而造成的清洗不充分、烘干不充分的問題。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于金屬銅表面清理設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域,具體的說是一種金屬銅表面氧化皮處理系統(tǒng)。
背景技術(shù)
銅及銅合金產(chǎn)品及零件,在常溫下其表面能與空氣中的氧生成氧化物,經(jīng)過加工(退火、高溫彎制、焊接等)熱處理高溫下更容易氧化,會(huì)生成一層較厚而致密的氧化皮,給后續(xù)工序加工、使用帶來很大困難。
傳統(tǒng)的方式是對(duì)銅及銅合金進(jìn)行酸洗,達(dá)到除去氧化層的目的。利用化學(xué)處理試劑,對(duì)于高溫氧化皮、銅銹具有滲透、松散、軟化、清洗作用。銅化學(xué)拋光是在銅及其合金表面進(jìn)行的一種環(huán)保型拋光工藝,經(jīng)過化學(xué)拋光后銅表面非常光滑光亮,盡顯銅本色,甚至可以使銅表面產(chǎn)生鏡面反射。銅化學(xué)拋光液維護(hù)方便、操作安全、無有害氣體逸出,是一種理想的銅及其合金表面化學(xué)拋光工藝。
在對(duì)銅及銅合金零件進(jìn)行化學(xué)拋光時(shí),針對(duì)一些批量化零部件生產(chǎn)企業(yè),其銅及銅合金零件數(shù)量較多,零件之間相互堆積、擠壓,容易造成局部接觸面清洗不干凈;這就需要進(jìn)行翻動(dòng),采用人工翻動(dòng),翻動(dòng)效率較低,并且由于拋光液存在一定的腐蝕性,影響操作人員的身體健康。
拋光液使用多次后,變臟并產(chǎn)生沉淀;通常是舀出上層清澈的清洗液,除去下層的臟物,并重新添加化學(xué)試劑后,方可繼續(xù)使用;往往抽取上層清洗液量較多,效率較低;并且需要額外容器暫存清洗液,占用工作空間,不利于場(chǎng)地的利用。
發(fā)明內(nèi)容
為了彌補(bǔ)現(xiàn)有技術(shù)的不足,本發(fā)明提出的一種金屬銅表面氧化皮處理系統(tǒng),通過將清洗液分層隔離,并清除沉淀臟物,提高清洗液利用率,提高生產(chǎn)效率。
本發(fā)明解決其技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是:本發(fā)明所述的一種金屬銅表面氧化皮處理系統(tǒng),包括拋光模塊、物料框、攤鋪模塊和烘干模塊;所述拋光模塊上端設(shè)有氣管,所述氣管用于配合連接物料框;所述攤鋪模塊設(shè)在拋光模塊一側(cè),并配合連接著烘干模塊;所述拋光模塊和攤鋪模塊之間設(shè)有懸臂吊;所述懸臂吊用于將拋光模塊內(nèi)清洗完成的物料框移至攤鋪模塊;物料框內(nèi)放入批量零件,將物料框放置在拋光模塊內(nèi)部,利用超聲波進(jìn)行清洗,物料框酸洗并水洗后,通過懸臂吊將物料框移至攤鋪模塊上方,將物料框內(nèi)的零件放置在攤鋪模塊上,利用攤鋪模塊將批量的零件攤鋪均勻,以便于提高干燥效率;零件通過攤鋪后即進(jìn)入烘干模塊進(jìn)行烘干。
優(yōu)選的,所述拋光模塊包括箱體、超聲波發(fā)生器和封閉板組件;所述箱體底部設(shè)有超聲波發(fā)生器;所述箱體設(shè)置為方箱;所述箱體兩側(cè)設(shè)有封閉板組件,并在另外兩側(cè)設(shè)有配合封閉板組件滑動(dòng)的滑槽;所述封閉板組件一端固定安裝永磁塊;所述箱體外側(cè)對(duì)應(yīng)滑槽設(shè)有導(dǎo)軌;所述導(dǎo)軌上滑動(dòng)連接牽引磁鐵;所述牽引磁鐵滑動(dòng)用于開啟或閉合箱體底部,多次使用后的清洗液產(chǎn)生較多雜質(zhì),經(jīng)過沉淀后,通過封閉板組件將箱體底部分隔后,排出底部沉淀臟物,提高清洗液利用效率。
優(yōu)選的,所述封閉板組件包括第一封閉板、第二封閉板和第三封閉板;所述第一封閉板固定安裝在箱體兩側(cè);所述第一封閉板內(nèi)部設(shè)有配合連接第二封閉板的滑槽;所述第二封閉板內(nèi)部設(shè)有配合連接第三封閉板的滑槽,通過設(shè)置封閉板組件,減少設(shè)備占用場(chǎng)地。
優(yōu)選的,所述箱體內(nèi)腔底面設(shè)置成中間向兩側(cè)傾斜的坡面,并在坡底設(shè)置排污管,封閉板組件封閉后排除箱體底部沉淀臟物后,開啟封閉板組件使得一部分清洗液向下沖洗箱體底板,提高臟物清理效果。
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