[發(fā)明專利]發(fā)光器件及其制備方法、顯示裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201810175438.1 | 申請日: | 2018-03-02 |
| 公開(公告)號: | CN110224072B | 公開(公告)日: | 2021-09-14 |
| 發(fā)明(設計)人: | 王建太;邢汝博;楊小龍;劉會敏;孫萍;韋冬 | 申請(專利權)人: | 昆山工研院新型平板顯示技術中心有限公司;昆山國顯光電有限公司 |
| 主分類號: | H01L51/50 | 分類號: | H01L51/50;H01L51/56;H01L27/32 |
| 代理公司: | 廣州華進聯(lián)合專利商標代理有限公司 44224 | 代理人: | 唐清凱 |
| 地址: | 215300 江蘇省蘇*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 發(fā)光 器件 及其 制備 方法 顯示裝置 | ||
1.一種發(fā)光器件的制備方法,其特征在于,包括以下步驟:
提供陽極,依次沉積空穴功能材料、發(fā)光材料和陰極材料,得到空穴功能層、發(fā)光層和陰極;其中,所述空穴功能材料包括金屬氧化物;
所述沉積空穴功能材料的步驟之前還包括通過水溶液法制備金屬氧化物的步驟,所述水溶液法制備金屬氧化物為通過水作為溶劑,在酸性和強氧化劑的作用下低溫合成金屬氧化物。
2.根據(jù)權利要求1所述的制備方法,其特征在于,所述金屬氧化物包括β-MoO3,所述β-MoO3的粒徑為5~10nm。
3.根據(jù)權利要求1或2所述的制備方法,其特征在于,所述制備金屬氧化物的步驟包括:
提供一含鉬鹽的水溶液;
邊攪拌邊添加酸性物質,并調節(jié)溶液體系的pH值不大于6;
持續(xù)攪拌至少24小時后,得到含納米粒子的第一溶液;
邊攪拌邊加入強氧化劑,得到含金屬氧化物的第二溶液;
干燥后即得。
4.根據(jù)權利要求3所述的制備方法,所述含鉬鹽的水溶液中鉬鹽的物質的量濃度為0.005mol/L~0.05mol/L,所述鉬鹽包括鉬酸銨、鉬酸銨水合物中的至少一種。
5.根據(jù)權利要求3所述的制備方法,其特征在于,所述酸性物質為強酸,調節(jié)溶液體系的pH值為3~5。
6.根據(jù)權利要求3所述的制備方法,所述強氧化劑包括濃度為15wt.%~50wt.%的雙氧水溶液。
7.根據(jù)權利要求6所述的制備方法,其特征在于,所述雙氧水溶液與所述第一溶液的體積比為1:600~1:1500。
8.根據(jù)權利要求1-4任一所述的制備方法,其特征在于,還包括以下步驟:在沉積發(fā)光材料之后,還包括沉積電子傳輸材料和/或電子注入材料,得到電子傳輸層和/或電子注入層。
9.一種發(fā)光器件,其特征在于,由權利要求1-8任一所述的制備方法制備而得。
10.一種顯示裝置,其特征在于,包括權利要求9所述的發(fā)光器件。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L51-00 使用有機材料作有源部分或使用有機材料與其他材料的組合作有源部分的固態(tài)器件;專門適用于制造或處理這些器件或其部件的工藝方法或設備
H01L51-05 .專門適用于整流、放大、振蕩或切換且并具有至少一個電位躍變勢壘或表面勢壘的;具有至少一個電位躍變勢壘或表面勢壘的電容器或電阻器
H01L51-42 .專門適用于感應紅外線輻射、光、較短波長的電磁輻射或微粒輻射;專門適用于將這些輻射能轉換為電能,或者適用于通過這樣的輻射進行電能的控制
H01L51-50 .專門適用于光發(fā)射的,如有機發(fā)光二極管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料選擇





