[發(fā)明專利]一種光學(xué)膜結(jié)構(gòu)及背光組件

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201810173124.8
• 申請日: 2018-03-02
• 公開（公告）號: CN108445673A
• 公開（公告）日: 2018-08-24
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 陳明源;王開儀;丁清華
• 申請（專利權(quán)）人: 張家港康得新光電材料有限公司
• 主分類號: G02F1/13357
• 分類號: G02F1/13357;C08L75/14;C08L63/10;C08L67/06;C08K3/22
• 代理公司: 蘇州創(chuàng)元專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 32103
• 代理人: 范晴;胡秋嬋

1.一種光學(xué)膜結(jié)構(gòu)，包括基材(100)，所述基材(100)具有第一表面和第二表面，光線經(jīng)所述第一表面入射后經(jīng)所述第二表面離開，其特征在于：所述第二表面上設(shè)有若干個光路調(diào)制部(200)用以將入射光透射至可視角度內(nèi)，所述光路調(diào)制部(200)之間設(shè)有高反光部(300)用以反射入射到所述高反光部(300)的光。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述光路調(diào)制部(200)為梯形柱狀體結(jié)構(gòu)，所述光路調(diào)制部(200)的斷面呈梯形。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述若干個光路調(diào)制部(200)與所述第二表面之間設(shè)有光路調(diào)制基部(400)，所述光路調(diào)制基部(400)與所述光路調(diào)制部(200)采用相同的材料制得。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述光路調(diào)制部(200)的上底寬度、下底寬度、上底到第二表面的高度的比為1∶(1.2～1.4)∶(3.0～5.0)。

5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述高反光部(300)為三棱柱體結(jié)構(gòu)，且其上平面與所述光路調(diào)制部(200)的上底位于同一平面上。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述高反光部(300)原料的重量組成包括：

UV樹脂10～70％；

高反光材料25～50％；

分散劑0.5～5％。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述UV樹脂為聚氨酯丙烯酸酯低聚物、環(huán)氧丙烯酸酯低聚物、聚酯丙烯酸酯低聚物或丙烯酸酯反應(yīng)單體中的一種或多種。

8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述高反光材料是粒徑為0.1～0.4μm的次微米級二氧化鈦粉體、或是粒徑為0.01～0.1nm的超微細(xì)納米級二氧化鈦粉體。

9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述原料還包括吸收波長為380～440nm的光引發(fā)劑。

10.根據(jù)權(quán)利要求6所述的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述原料中還包括熒光增白劑。

11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述高反光部(300)對可見光的反射率為90％以上。

12.一種背光組件，其特征在于：包括權(quán)利要求1至11任意一項所述的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)。