[發(fā)明專利]粘結(jié)劑組合物和表面保護膜在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201810171056.1 | 申請日: | 2014-10-28 |
| 公開(公告)號: | CN108300343A | 公開(公告)日: | 2018-07-20 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 長倉毅;島口龍介;長谷川良;新見洋人;吉田弘幸;菱沼昌世 | 申請(專利權(quán))人: | 藤森工業(yè)株式會社 |
| 主分類號: | C09J7/10 | 分類號: | C09J7/10;C09J7/40;C09J7/30;C09J175/04;C09J11/06;C08F283/06;C08F220/18;C08F220/20;C08F226/10;C08G18/73;C08G18/32;C08G18/28;C08G18/62 |
| 代理公司: | 北京路浩知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11002 | 代理人: | 張晶;謝順星 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 粘結(jié)劑組合物 表面保護膜 可共聚單體 羥基 剝離 丙烯酸烷基酯單體 單(甲基)丙烯酸酯 丙烯酸類聚合物 異氰酸酯化合物 脂肪族異氰酸酯 烷基 丙烯酸酯單體 聚亞烷基二醇 抗靜電性能 乙烯基單體 含烷氧基 抗靜電劑 碳原子數(shù) 再加工性 共聚物 平衡性 三官能 粘結(jié)力 非環(huán) 羧基 | ||
本發(fā)明提供一種具有優(yōu)良的抗靜電性能、在低剝離速度和高剝離速度下粘結(jié)力的平衡性優(yōu)良、并且耐久性和再加工性也優(yōu)良的粘結(jié)劑組合物以及表面保護膜。本發(fā)明的粘結(jié)劑組合物包括:含有選自(A)烷基的碳原子數(shù)為C4~C18的(甲基)丙烯酸酯單體、(B)含羥基的可共聚單體、(C)含羧基的可共聚單體、(D)聚亞烷基二醇單(甲基)丙烯酸酯單體以及(E)不含羥基而含氮的乙烯基單體或者含烷氧基的(甲基)丙烯酸烷基酯單體中的至少一種的共聚物的丙烯酸類聚合物;而且,還含有(F)三官能以上的異氰酸酯化合物、(G)二官能非環(huán)式脂肪族異氰酸酯化合物、(H)抗靜電劑。
本發(fā)明是申請?zhí)枮?01410588424.4、申請日為2014年10月28日、發(fā)明名稱為“粘結(jié)劑組合物和表面保護膜”的分案申請,本申請以2013年11月20日在日本申請的專利申請2013-240125號為基礎(chǔ)要求優(yōu)先權(quán)。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種用于液晶顯示器的制造工序中的表面保護膜。更具體而言,本發(fā)明涉及一種通過粘貼在構(gòu)成液晶顯示器的偏光板、相位差板等光學(xué)部件的表面而用于保護偏光板、相位差板等光學(xué)部件的表面的表面保護膜用粘結(jié)劑組合物,以及使用了該粘結(jié)劑組合物的表面保護膜。
背景技術(shù)
一直以來,在作為構(gòu)成液晶顯示器的部件的偏光板、相位差板等光學(xué)部件的制造工序中,為了暫時保護光學(xué)部件的表面而粘貼表面保護膜。這種表面保護膜僅在制造光學(xué)部件的工序中使用,當將光學(xué)部件組裝到液晶顯示器時,將其從光學(xué)部件剝離而去除。由于這種用于保護光學(xué)部件表面的表面保護膜僅在制造工序中使用,因此,通常也被稱作“工序膜”。
對如此的制造光學(xué)部件的工序中使用的表面保護膜而言,在具有光學(xué)透明性的聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)樹脂膜的單面上形成有粘結(jié)劑層,并且,在該粘結(jié)劑層上貼合有經(jīng)過剝離處理的剝離膜,以保護該粘結(jié)劑層直至貼合于光學(xué)部件上。
另外,對偏光板、相位差板等光學(xué)部件而言,由于在貼合了表面保護膜的狀態(tài)下進行伴隨液晶顯示板的顯示能力、色調(diào)、對比度、雜質(zhì)混入等光學(xué)評價的產(chǎn)品檢驗,所以,作為對表面保護膜的性能要求,要求粘結(jié)劑層中不帶有氣泡、雜質(zhì)。
另外,近年來,從偏光板、相位差板等光學(xué)部件上剝離表面保護膜時,伴隨著從被粘附體剝離粘結(jié)劑層時發(fā)生的靜電所產(chǎn)生的剝離靜電,有可能會影響到液晶顯示器的電控制電路的故障,因此,要求粘結(jié)劑層具有優(yōu)良的抗靜電性能。
另外,在偏光板、相位差板等光學(xué)部件上貼合表面保護膜時,由于各種原因,會存在暫時剝離表面保護膜后再次重新粘貼表面保護膜的情況,此時要求容易從作為被粘附體的光學(xué)部件上剝離(再加工性)。
另外,最終從偏光板、相位差板等光學(xué)部件剝離表面保護膜時,要求能夠快速地剝離。即,要求粘結(jié)力因剝離速度的變化小,以便即使在高速剝離的情況下也能夠快速地剝離。
如此地,近年來,從使用表面保護膜時容易操作的觀點出發(fā),要求構(gòu)成表面保護膜的粘結(jié)劑層具有如下性能:(1)在低剝離速度和高剝離速度下,取得粘結(jié)力的平衡;(2)防止粘結(jié)劑殘留的發(fā)生;(3)優(yōu)良的抗靜電性能;以及(4)再加工(ReWork)性能等。
但是,即使能夠分別滿足對構(gòu)成表面保護膜的粘結(jié)劑層的性能要求,即,即使能夠分別滿足上述(1)~(4)中的個別性能要求,但同時滿足要求表面保護膜的粘結(jié)劑層具有的(1)~(4)的全部性能要求,是非常困難的課題。
例如,關(guān)于(1)在低剝離速度和高剝離速度下取得粘結(jié)力的平衡、以及(2)防止粘結(jié)劑殘留的發(fā)生,已知有如下所述的建議。
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