[發(fā)明專利]一種提高等離子噴涂涂層致密度的方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201810170658.5 | 申請日: | 2018-03-01 |
| 公開(公告)號: | CN108385053A | 公開(公告)日: | 2018-08-10 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 高鵬飛;王超;江駿東;李良鋒;王麗閣;王恩澤 | 申請(專利權(quán))人: | 西南科技大學(xué) |
| 主分類號: | C23C4/134 | 分類號: | C23C4/134 |
| 代理公司: | 綿陽市博圖知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 51235 | 代理人: | 楊暉瓊 |
| 地址: | 621000 四川省綿*** | 國省代碼: | 四川;51 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 干燥處理 制備 等離子噴涂涂層 等離子噴涂設(shè)備 涂層制備技術(shù) 粉末沉積 基體材料 加載振動 頻率振動 制備過程 孔隙率 噴砂 去油 清洗 | ||
1.一種提高等離子噴涂涂層致密度的方法,其特征在于,包括以下步驟:
(1)制備粉末;
(2)對步驟(1)所得的粉末進(jìn)行干燥處理;
(3)將基體材料依次進(jìn)行去油、噴砂、清洗及干燥處理;
(4)制備涂層,采用等離子噴涂法將經(jīng)過步驟(2)干燥處理的粉末沉積在經(jīng)步驟(3)處理的并加載有低頻振動的基體上,即得涂層。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的提高等離子噴涂涂層致密度的方法,其特征在于:步驟(1)所述的粉末粒徑范圍為5μm~200μm。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的提高等離子噴涂涂層致密度的方法,其特征在于:步驟(1)所述的粉末的制備方法包括霧化法或球磨法。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的提高等離子噴涂涂層致密度的方法,其特征在于:步驟(2)所述干燥方法為在100℃以下的真空或惰性氣氛環(huán)境下對其進(jìn)行干燥處理。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的提高等離子噴涂涂層致密度的方法,其特征在于:步驟(3)中所述的基體材料包括Ni基高溫合金、不銹鋼、鋁合金中的一種。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的提高等離子噴涂涂層致密度的方法,其特征在于:步驟(3)中所述噴砂處理時,噴砂顆粒成分主要是剛玉砂或石英砂,顆粒粒徑為60~200目,噴砂壓力為0.1MPa~0.8MPa。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的提高等離子噴涂涂層致密度的方法,其特征在于:步驟(3)中所述干燥方法為在100℃以下的真空或惰性氣氛環(huán)境下對其進(jìn)行干燥處理。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的提高等離子噴涂涂層致密度的方法,其特征在于:步驟(4)中,所述等離子噴涂法的技術(shù)參數(shù)為:噴槍與基體的距離為80~250mm;噴槍的移動速度為50~600mm/min;送粉速率為8~250g/min;送粉氣流為3~15L/min;電流范圍為300~800A;主氣成分為氬氣或氮氣,流量范圍為10~100L/min;次氣成分為氫氣,流量范圍為0.5~20L/min。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的提高等離子噴涂涂層致密度的方法,其特征在于:步驟(4)中,所述鎳基高溫合金基體加載的振動頻率范圍為10~2000Hzmm,振幅范圍為0.05~1mm。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的提高等離子噴涂涂層致密度的方法,其特征在于:所述基體溫度為室溫,所得涂層的厚度范圍為50~250μm。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C4-00 熔融態(tài)覆層材料噴鍍法,例如火焰噴鍍法、等離子噴鍍法或放電噴鍍法的鍍覆
C23C4-02 .待鍍材料的預(yù)處理,例如為了在選定的表面區(qū)域鍍覆
C23C4-04 .以鍍覆材料為特征的
C23C4-12 .以噴鍍方法為特征的
C23C4-18 .后處理
C23C4-14 ..用于長形材料的鍍覆





