[發明專利]減反射結構及其制作方法、顯示裝置

有效

• 申請號: 201810168255.7
• 申請日: 2018-02-28
• 公開（公告）號: CN108227049B
• 公開（公告）日: 2019-08-23
• 發明（設計）人: 趙偉利
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司
• 主分類號: G02B1/118
• 分類號: G02B1/118
• 代理公司: 北京銀龍知識產權代理有限公司 11243
• 代理人: 許靜;張博

1.一種減反射結構，其特征在于，包括：

透光基底；

位于所述透光基底上的吸光圖形，所述吸光圖形限定出多個透光區域；

位于所述透光區域內的多個間隔排布的負折射率圖形，所述負折射率圖形與所述吸光圖形位于所述透光基底的同一側表面，預設角度范圍內的光線照射到所述負折射率圖形上能夠被折射至被所述吸光圖形；

其中，相鄰所述負折射率圖形在垂直于自身延伸方向的第一方向上的間距為S，所述負折射率圖形在第一方向上的寬度為W，W大于等于S。

2.根據權利要求1所述的減反射結構，其特征在于，所述負折射率圖形采用摻雜有鋁原子的銀薄膜制成。

3.根據權利要求1所述的減反射結構，其特征在于，

所述負折射率圖形在垂直于自身延伸方向的第一方向上的截面為矩形，所述負折射率圖形在所述第一方向上的寬度大于相鄰所述負折射率圖形在第一方向上的間距。

4.根據權利要求1所述的減反射結構，其特征在于，

每一透光區域中設置有兩個間隔排布的負折射率圖形，所述負折射率圖形在垂直于自身延伸方向的第一方向上的截面為直角三角形，且第一方向上，兩個所述直角三角形的斜面相對設置。

5.根據權利要求1所述的減反射結構，其特征在于，

所述透光區域的寬度為70～85um，所述吸光圖形的寬度為15～30um。

6.根據權利要求1所述的減反射結構，其特征在于，所述負折射率圖形的高度為1～10um。

7.根據權利要求1所述的減反射結構，其特征在于，所述透光基底采用玻璃、石英、或聚酰亞胺。

8.一種減反射結構的制作方法，其特征在于，包括：

提供一透光基底；

在所述透光基底上形成吸光圖形，所述吸光圖形限定出多個透光區域；

在所述透光區域內形成多個間隔排布的負折射率圖形，所述負折射率圖形與所述吸光圖形位于所述透光基底的同一側表面，預設角度范圍內的光線照射到所述負折射率圖形上能夠被折射至被所述吸光圖形；

其中，相鄰所述負折射率圖形在垂直于自身延伸方向的第一方向上的間距為S，所述負折射率圖形在第一方向上的寬度為W，W大于等于S。

9.根據權利要求8所述的減反射結構的制作方法，其特征在于，所述形成多個間隔排布的負折射率圖形包括：

在所述透光基底上沉積銀薄膜，并在沉積過程中加入鋁原子；

對摻雜有鋁原子的銀薄膜進行構圖，形成多個間隔排布的負折射率圖形。

10.一種顯示裝置，其特征在于，包括顯示屏和位于所述顯示屏顯示側的如權利要求1-7中任一項所述的減反射結構，所述顯示屏的像素區域在所述減反射結構上的正投影與所述透光區域重合。