[發(fā)明專利]一種電場(chǎng)可控的二維材料肖特基二極管有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201810159396.2 | 申請(qǐng)日: | 2018-02-26 |
| 公開(公告)號(hào): | CN108493255B | 公開(公告)日: | 2021-03-02 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 湯乃云;王倩倩;單亞兵;杜琛;徐浩然 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 上海電力學(xué)院 |
| 主分類號(hào): | H01L29/872 | 分類號(hào): | H01L29/872;H01L29/24 |
| 代理公司: | 上海科盛知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 31225 | 代理人: | 楊元焱 |
| 地址: | 200090 *** | 國(guó)省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 電場(chǎng) 可控 二維 材料 肖特基 二極管 | ||
1.一種電場(chǎng)可控的二維材料肖特基二極管,其特征在于,包括襯底層(1),所述襯底層(1)自下而上依次設(shè)置金屬層(2)、高介電常數(shù)材料層(3)和單層二維半導(dǎo)體材料層(4),所述單層二維半導(dǎo)體材料層(4)的兩端分別設(shè)置金屬電極A(6)和金屬電極B(7),所述單層二維半導(dǎo)體材料層(4)的上部部分區(qū)域設(shè)置多層二維半導(dǎo)體材料層(5),所述多層二維半導(dǎo)體材料層(5)與所述金屬電極B(7)接觸;
在所述襯底層(1)施加正向電場(chǎng)時(shí),所述高介電常數(shù)材料層(3)極化,產(chǎn)生的極化電場(chǎng)誘導(dǎo)單層二維半導(dǎo)體材料層(4)發(fā)生半導(dǎo)體-金屬相變,所述多層二維半導(dǎo)體材料層(5)仍保持半導(dǎo)體相,金屬相的單層二維半導(dǎo)體材料層(4)和半導(dǎo)體相的多層二維半導(dǎo)體材料層(5)接觸,器件成為肖特基二極管;
在所述襯底層(1)施加反向電場(chǎng)時(shí),所述高介電常數(shù)材料層(3)內(nèi)極化電場(chǎng)消失,所述單層二維半導(dǎo)體材料層(4)恢復(fù)為半導(dǎo)體相,器件恢復(fù)為原始狀態(tài)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種電場(chǎng)可控的二維材料肖特基二極管,其特征在于,所述的單層二維半導(dǎo)體材料層(4)以及多層二維半導(dǎo)體材料層(5)采用MoTe2材料。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種電場(chǎng)可控的二維材料肖特基二極管,其特征在于,所述多層二維半導(dǎo)體材料層(5)的厚度為1-3nm,通過(guò)轉(zhuǎn)移或化學(xué)氣相沉積法覆蓋在所述單層二維半導(dǎo)體材料層(4)上。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種電場(chǎng)可控的二維材料肖特基二極管,其特征在于,所述單層二維半導(dǎo)體材料層(4)的厚度為0.5-0.7nm,采用化學(xué)液相合成法制備得到,通過(guò)轉(zhuǎn)移覆蓋在所述高介電常數(shù)材料層(3)上。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種電場(chǎng)可控的二維材料肖特基二極管,其特征在于,所述單層二維半導(dǎo)體材料層(4)的半導(dǎo)體-金屬相變轉(zhuǎn)換能小于100毫電子伏特,所述多層二維半導(dǎo)體材料層(5)不具有相變特性。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種電場(chǎng)可控的二維材料肖特基二極管,其特征在于,所述襯底層(1)采用硅材料。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種電場(chǎng)可控的二維材料肖特基二極管,其特征在于,所述金屬層(2)為金,厚度為10-100nm。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種電場(chǎng)可控的二維材料肖特基二極管,其特征在于,所述高介電常數(shù)材料層(3)采用PVDF-TrFE或其它介電常數(shù)大于10的鐵電材料,厚度為10-100nm。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種電場(chǎng)可控的二維材料肖特基二極管,其特征在于,所述襯底層(1)施加的正向電場(chǎng)及反向電場(chǎng)均大于所述高介電常數(shù)材料層(3)的矯頑電場(chǎng)。
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- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L29-00 專門適用于整流、放大、振蕩或切換,并具有至少一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或表面勢(shì)壘的半導(dǎo)體器件;具有至少一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或表面勢(shì)壘,例如PN結(jié)耗盡層或載流子集結(jié)層的電容器或電阻器;半導(dǎo)體本體或其電極的零部件
H01L29-02 .按其半導(dǎo)體本體的特征區(qū)分的
H01L29-40 .按其電極特征區(qū)分的
H01L29-66 .按半導(dǎo)體器件的類型區(qū)分的
H01L29-68 ..只能通過(guò)對(duì)一個(gè)不通有待整流、放大或切換的電流的電極供給電流或施加電位方可進(jìn)行控制的
H01L29-82 ..通過(guò)施加于器件的磁場(chǎng)變化可控的
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