[發明專利]一種光場圖像配準方法及系統

有效

• 申請號: 201810156779.4
• 申請日: 2018-02-24
• 公開（公告）號: CN108376409B
• 公開（公告）日: 2020-12-01
• 發明（設計）人: 段福洲;蘇文博;關鴻亮;徐翎豐;郭甜;孟祥慈;楊帆
• 申請（專利權）人: 首都師范大學
• 主分類號: G06T7/33
• 分類號: G06T7/33;G06T7/12;G06T7/136;G06T7/13;G06T7/66
• 代理公司: 北京高沃律師事務所 11569
• 代理人: 王戈

1.一種光場圖像配準方法，其特征在于，包括：

確定光場相機中微透鏡陣列中各個微透鏡的中心；

獲取左目標光場圖像和右目標光場圖像，所述左目標光場圖像和所述右目標光場圖像具有重疊區域；

以左目標光場圖像中對應每個微透鏡的中心為矩形中心，以所述左目標光場圖像中預設個數的像素長度為矩形邊長，確定所述左目標光場圖像的多個矩形檢測區域；

以右目標光場圖像中對應每個微透鏡的中心為矩形中心，以所述右目標光場圖像中所述預設個數的像素長度為矩形邊長，確定所述右目標光場圖像的多個檢測區域；

利用尺度不變特征變換算法從所述左目標光場圖像的每個檢測區域中提取第一特征點，構成第一特征點集，所述第一特征點為所述左目標光場圖像中每個檢測區域中的尺度不變性滿足預設閾值的特征點；

利用尺度不變特征變換算法從所述右目標光場圖像的每個檢測區域中提取第二特征點，構成第二特征點集，所述第二特征點為所述右目標光場圖像中每個檢測區域中的尺度不變性滿足所述預設閾值的特征點；

利用暴力算法對所述第一特征點集中的特征點與所述第二特征點集中的特征點進行匹配，得到多個匹配點對；

確定各個所述匹配點對中特征點的坐標；

依據所述坐標，計算單應矩陣；

依據所述單應矩陣，得到所述左目標光場圖像和所述右目標光場圖像配準后的圖像；

所述確定光場相機中微透鏡陣列中各個微透鏡的中心，具體包括：

利用光場相機拍攝勻光板，獲取光場白圖像；

確定所述光場白圖像的全局閾值；

依據所述全局閾值對所述光場白圖像進行二值化；

尋找二值化后的所述光場白圖像中各個微透鏡圖像的輪廓；

依據所述各個微透鏡圖像的輪廓確定所述光場白圖像中各個微透鏡圖像的中心；

將每個微透鏡圖像的中心確定為對應的微透鏡的中心。

2.根據權利要求1所述的一種光場圖像配準方法，其特征在于，所述依據所述各個微透鏡圖像的輪廓確定所述光場白圖像中各個微透鏡圖像的中心，具體包括：

利用灰度重心法計算各個微透鏡圖像的輪廓構成的聯通區域的中心；

將所述各個微透鏡圖像的輪廓構成的聯通區域的中心確定為對應的所述光場白圖像中各個微透鏡圖像的中心。

3.根據權利要求1所述的一種光場圖像配準方法，其特征在于，在所述利用暴力算法對所述第一特征點集中的特征點與所述第二特征點集中的特征點進行匹配，得到多個匹配點對之后，還包括對多個所述匹配點對進行初次篩選；

所述對多個所述匹配點對進行初次篩選，具體包括：

計算各個所述匹配點對的余弦值；

依據所述余弦值，計算多個所述匹配點對的余弦平均值；

判斷每個所述匹配點對的余弦值是否小于所述余弦平均值；

若是，則保留所述匹配點對；

否則，刪除所述匹配點對。

4.根據權利要求3所述的一種光場圖像配準方法，其特征在于，所述對多個所述匹配點對進行初次篩選之后，還包括利用隨機抽樣一致性算法對初次篩選后的所述匹配點對進行二次篩選，刪除所述初次篩選后的所述匹配點對中的噪聲點對。