[發(fā)明專利]用于基材的真空涂布的箱式涂布設備

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201810154032.5
• 申請日: 2018-02-22
• 公開（公告）號: CN108456856B
• 公開（公告）日: 2021-10-22
• 發(fā)明（設計）人: G·狄波拉;佛朗哥·莫雷尼;安東尼奧·柯瑞亞;朱塞佩·維斯科米;F·伯來梅
• 申請（專利權）人: 薩特隆股份公司
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24;C23C14/54;C23C14/04
• 代理公司: 上海專利商標事務所有限公司 31100
• 代理人: 朱立鳴

1.一種用于基材的真空涂布的箱式涂布設備(10)，所述箱式涂布設備(10)包括真空室(12)，所述真空室(12)能通過泵送布置(25)排空并且包含用于蒸發(fā)涂布材料的蒸發(fā)源(14)、用于保持多個基材的基材支架(16)，所述基材支架在所述真空室(12)中相對于所述蒸發(fā)源(14)面對面設置，使得被所述蒸發(fā)源(14)蒸發(fā)的涂布材料能夠撞擊在由所述基材支架(16)保持的基材上，其中，除了所述蒸發(fā)源(14)和所述基材支架(16)之外，提供了至少一個另外的功能部件(20、26)、即至少一個邁斯納捕集器(20)和/或高真空閥機構(26)，在所述真空室(12)中，所述至少一個另外的功能部件(20、26)分配有防護罩布置(50、52)，所述防護罩布置(50、52)位于所述蒸發(fā)源(14)與所述功能部件(20、26)之間，從而防止由所述蒸發(fā)源(14)蒸發(fā)的涂布材料撞擊在所述功能部件(20、26)上，其特征在于，分配給所述邁斯納捕集器(20)和/或所述高真空閥機構(26)的所述防護罩布置(50、52)包括百葉窗部分(54、56)，所述百葉窗部分(54、56)能選擇性地從關閉的屏蔽位置轉移至打開的泵送位置，并且反之亦然，在所述關閉的屏蔽位置中，所述百葉窗部分(54、56)覆蓋通過所述防護罩布置(50、52)的通道(58、60)，同時所述百葉窗部分(54、56)用于屏蔽所述功能部件(20、26)，在所述打開的泵送位置中，所述百葉窗部分(54、56)清空所述通道(58、60)，以允許氣體和蒸氣自由地通過。

2.根據(jù)權利要求1所述的箱式涂布設備(10)，其特征在于，所述基材是眼鏡鏡片。

3.根據(jù)權利要求1所述的箱式涂布設備(10)，其特征在于，所述百葉窗部分(54、56)用于與所述防護罩布置(50、52)的其余部分一起屏蔽所述功能部件(20、26)。

4.根據(jù)權利要求1所述的箱式涂布設備(10)，其特征在于，所述防護罩布置(52)還具有設置有至少一個孔口(116)的至少一個固定的防護罩元件(110、112、114)，而所述百葉窗部分(56)包括設置有至少一個掩模區(qū)域(124)的至少一個可移動百葉窗元件(118、120、122)，所述至少一個掩模區(qū)域(124)適于在大小和幾何結構上覆蓋所述防護罩元件(110、112、114)中的所述孔口(116)，其中，所述百葉窗元件(118、120、122)能夠相對于所述防護罩元件(110、112、114)移動，以便用所述百葉窗部分(56)的屏蔽位置中的所述百葉窗元件(118、120、122)的所述掩模區(qū)域(124)選擇性地覆蓋所述防護罩元件(110、112、114)的所述孔口(116)，或者通過處于所述百葉窗部分(56)的所述泵送位置中的所述百葉窗元件(118、120、122)的所述掩模區(qū)域(124)揭開所述防護罩元件(110、112、114)的所述孔口(116)，以便清空通過所述孔口(116)的所述通道(60)。

5.根據(jù)權利要求4所述的箱式涂布設備(10)，其特征在于，所述百葉窗部分(56)的所述百葉窗元件(118、120、122)被布置成相對于所述防護罩布置(52)的所述防護罩元件(110、112、114)線性移動。

6.根據(jù)權利要求4所述的箱式涂布設備(10)，其特征在于，所述百葉窗部分(56)的所述百葉窗元件(118、120、122)被布置成平行于所述防護罩布置(52)的所述防護罩元件(110、112、114)移動。

7.根據(jù)權利要求5所述的箱式涂布設備(10)，其特征在于，所述百葉窗部分(56)的所述百葉窗元件(118、120、122)被布置成平行于所述防護罩布置(52)的所述防護罩元件(110、112、114)移動。