[發明專利]一種有效調控強耦合劈裂能的方法

在審

• 申請號: 201810152333.4
• 申請日: 2018-02-14
• 公開（公告）號: CN110164583A
• 公開（公告）日: 2019-08-23
• 發明（設計）人: 廖清;任佳歡;付紅兵
• 申請（專利權）人: 首都師范大學
• 主分類號: G21K1/16
• 分類號: G21K1/16
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種有效調控強耦合劈裂能的方法，包括如下步驟：

在室溫條件下，將不同質量的有機分子分別溶于1ml制備好的PS甲苯溶液中，加熱使有機分子充分溶于PS甲苯溶液中，形成混合溶液；之后將配好的前述混合溶液旋涂于銀膜上，通過控制甩膜儀的轉速恒定使得不同摻雜比例的薄膜厚度保持一致，厚度控制為580nm；最后在真空條件下，在薄膜上蒸鍍上銀膜就構成了微腔結構，在顯微角分辨裝置上測試微腔結構的反射率來計算其劈裂能的大小，通過控制薄膜中有機分子的摻雜比例來有效調控劈裂能。

2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于：所述混合溶液為摻雜PS的有機分子的甲苯溶液。

3.根據權利要求1或2所述的方法，其特征在于：所述加熱使有機分子充分溶于PS甲苯溶液，加熱溫度不超過為100℃。

4.根據權利要求1或3所述的方法，其特征在于：所述加熱溫度為85℃。

5.根據權利要求1所述的方法，其特征在于：所述控制甩膜儀轉速的步驟中將轉速調節為1000r/min。

6.根據權利要求1所述的方法，其特征在于：所述控制不同摻雜比例步驟中，將摻雜比例控制為2.5％-15％。

7.根據權利要求1所述的方法，其特征在于：所述真空是相對真空，真空度為10^-6Torr。

8.根據權利要求1所述的方法，其特征在于：所述在薄膜上蒸鍍上銀膜為在金屬蒸鍍機中進行。

9.根據權利要求1所述的方法，其特征在于：所述在角分辨裝置上測試反射譜是在室溫條件下測試。

10.根據權利要求9所述的方法，其特征在于：所述劈裂能是通過反射率擬合計算得到。